| 摘要 |
<P>Le procédé selon l'invention comprend les étapes consistant à : modéliser un faisceau lumineux engendré par un ensemble optique du projecteur comprenant une source lumineuse (S), un miroir récupérateur et concentrateur (M) et une lentille (L), identifier dans le faisceau lumineux modélisé la partie éblouissante à atténuer ou occulter, par analyse de trajets inverses des rayons lumineux participant à ladite partie éblouissante, déterminer au moins une zone (ZM1, ZM2, ZM3) du miroir par laquelle ces rayons lumineux sont réfléchis, et déterminer, sur une surface de masque (GR), la ou les zones qui sont homologues de la ou des zones du miroir, et réaliser un ou plusieurs éléments de masquage aptes à occuper la ou les zones de masque sur ladite surface de masque. Application notamment à la réalisation d'un " cache vacancier " pour projecteur du genre elliptique.</P>
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