发明名称 SPUTTERING TARGET AND METHODS OF MAKING SAME
摘要 <p>L'invention concerne une cible destinée à être utilisée dans un processus de pulvérisation, pouvant comporter un support conçu pour être relié de manière active à une source d'énergie de pulvérisation, et une couche extérieure de matériau pulvérisable portée par le support. Le matériau pulvérisable comporte un mélange de zinc et d'un deuxième métal ayant un point de fusion inférieur à celui du zinc. Le zinc et le deuxième métal sont présents sous forme métallique dans le matériau pulvérisable et sont disposés en tant que volumes discrets du deuxième métal dans une matrice de zinc. Ladite cible peut être fabriquée par projection par plasma simultanée du métal de zinc et du deuxième métal sur un support afin de créer une couche extérieure de matériau pulvérisable portée par le support. La cible peut être utilisée par disposition de la cible et d'un substrat dans une chambre de pulvérisation, et par application d'une énergie sur la cible avec maintien d'une atmosphère réactive contenant de l'oxygène dans la chambre de pulvérisation, une pellicule contenant des oxydes de zinc et du deuxième métal étant déposée sur une surface du substrat.</p>
申请公布号 WO2001042522(A2) 申请公布日期 2001.06.14
申请号 US2000042533 申请日期 2000.12.01
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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