METHOD FOR PRODUCTION OF A CAPACITOR ELECTRODE WITH A BARRIER STRUCTURE
摘要
Bei einem Verfahren zur Herstellung einer Kondensator-Elektrode (11) mit einer darunterliegend angeordneten Barrierestruktur (14.1) wird zur Herstellung der Barrierestruktur (14.1) eine Barriere-Einlagerungsschicht (16) eingesetzt und ein CMP(chemical mechanical polishing)-Prozess angewendet.
申请公布号
WO0129885(A3)
申请公布日期
2001.06.14
申请号
WO2000DE03662
申请日期
2000.10.16
申请人
INFINEON TECHNOLOGIES AG;BEITEL, GERHARD;SAENGER, ANNETTE;KASKO, IGOR
