发明名称 光扩散板制作方法
摘要 一种光扩散板制作方法,其步骤包括:依点光源之大小及画素决定喷砂之砂粒大小;喷砂直接成型或塑胶射出成型或压印成型,制成多频绕射高折射率基板;将基板浸浴于Polysiloxane树脂之矽溶液中,再将基板缓慢拉出溶液使表面形成矽溶液薄膜;将浸浴之基板分两阶段烘烤,使覆盖在基板上之矽溶液薄膜体会硬化成低折射率之矽氧化层,以完成具有多频绕射及高透射率效应,能使不连续光点扩散为连续光源之光扩散板制品;藉此,应用于不连续光点之显示器(如LED Display)上,其字幕和图像看起来较为连续、舒适者。
申请公布号 TW438994 申请公布日期 2001.06.07
申请号 TW088103105 申请日期 1999.02.26
申请人 李正中;徐进成 发明人 李正中;徐进成
分类号 G02F1/13 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人
主权项 1.一种光扩散板制作方法,其方法包括下列步骤:第一步骤为依显示器光源之大小及画素(Pixel)计算出单位英寸内有几个光点,供能据此选取喷砂所用砂粒大小之号数;第二步骤为将喷砂直接成型于高折射率之玻璃基板上,以形成具粗糙面之多频绕射基板,或者以喷砂处理制成粗糙面之模具,以模具制出具有粗糙面之多频绕射基板,该多频绕射基板在可见光550nm波长之光学折射率为1.56到1.58范围;第三步骤为将多频绕射基板浸浴于矽溶液中,该矽溶液为一Polysiloxane树脂,其以5℃到18℃温度使多频绕射基板之粗糙面实施浸浴处理,再缓慢拉离液面形成矽溶液薄膜;以及第四步骤为将表面黏附矽溶液之基板实施烘烤处理,其烘烤处理分成两阶段,第一阶段烘烤条件先以80℃温度烘烤90分钟,再以125℃温度烘烤15分钟为第二阶段烘烤条件进行烘烤,使覆盖在基板上矽溶液之薄膜硬化成矽氧化层,其矽氧化层主要化学键结为-O-Si-O-Si-O-,在可见光550nm波长之光学折射率在1.47到1.5范围,以完成具有多频绕射及高透射率效应,能使不连续光点扩散为连续光源之光扩散板制品。2.如申请专利范围第1项所述之光扩散板制作方法,其制成品之光扩散板系由喷砂粒直接成型或塑胶射出成型或压印成型制作出多频绕射高折射率基板,其特征在于:该基板之一侧面为粗糙面,其粗糙面上浸浴矽溶液以形成一薄膜层,将薄膜层烘烤而硬化成矽氧化层;藉此该粗糙面使两边之材料折射率比减少,以降低过多的光扩散效应,使光线在粗糙面上依然具有多频绕射及高透射率的效果,进而达到具有将不连续光点扩散为连续光源,且具有高透光率之板体结构者。3.如申请专利范围第1项所述之光扩散板制作方法,其中以喷砂处理制成粗糙面之模具,以塑胶射出法(injection)射出制作具有粗糙面之多频绕射基板,或以压模成型法压印制作具有粗糙面之多频绕射基板,多频绕射基板为高折射率塑胶PC基板者。图式简单说明:第一图所示为本发明实施例之流程示意图。第二图所示为本发明实施例光扩散板剖面放大示意图。第三图所示为本发明实施例光扩散板使用效果比较实际显示图。
地址 桃园县中坜巿五权里三十八号国立中央大学光电所