| 主权项 |
1.一种残留气体之清除装置,包括有:一反应室,上述反应室包括一主反应室及一中间反应室,其中上述主反应室及上述中间反应室系利用一具有贯穿孔之面板相导通;以及一帮浦,上述帮浦系连接至主反应室;上述清除装置系利用上述帮浦以抽气方式,将上述主反应室和上述中间反应室内部气体清除;上述清除装置之特征在于:上述主反应室及上述中间反应室之间更包括一控制阀,当上述帮浦在抽气时,上述控制阀开启,使上述中间反应室内部之气体可以经由上述控制阀抽出,以提高上述中间反应室之清除速度。2.如申请专利范围第1项所述之残留气体之清除装置,其中,上述帮浦包含有一第一帮浦,将气体自上述反应室抽出,使上述反应室内压力降低。3.如申请专利范围第2项所述之残留气体之清除装置,其中,上述帮浦更包含有一第二帮浦,在上述反应室初抽真空之后,将上述反应室抽至高真空状态。4.如申请专利范围第1项所述之残留气体之清除装置,其中,上述控制阀包含有一控制阀,上述控制阀于上述帮浦抽气时开启,上述中间反应室残留之气体流往上述主反应室,以清除残留气体。5.如申请专利范围第1项所述之残留气体之清除装置,其中,上述控制阀包含有一VAT阀,用以控制上述主反应室之压力。6.一种残留气体之清除装置,其包括有一主反应室、一中间反应室、一帮浦及一控制阀,上述中间反应室设于上述主反应室上,上述帮浦连接上述主反应室,上述控制阀与上述主反应室及上述中间反应室相接,上述主反应室和上述中间反应室之间跨接有一管路,以将上述中间反应室残留之气体输送至上述主反应室,利用上述帮浦将上述主反应室抽气至真空状态。7.如申请专利范围第6项所述之残留气体之清除装置,其中,上述帮浦包含有一第一帮浦,将气体自上述主反应室抽出,使上述主反应室内压力降低。8.如申请专利范围第7项所述之残留气体之清除装置,其中,上述帮浦更包含有一第二帮浦,在上述主反应室初抽真空之后,将上述主反应室抽至高真空状态。9.如申请专利范围第6项所述之残留气体之清除装置,其中,上述控制阀包含有一控制阀,上述控制阀控制连接上述主反应室和上述中间反应室之上述管路,上述帮浦抽气时,上述控制阀开启,上述中间反应室残留之气体由上述管路流往上述主反应室,以清除残留气体。10.如申请专利范围第6项所述之残留气体之清除装置,其中,上述控制阀包含有一VAT阀,用以控制上述主反应室之压力。图式简单说明:第一图系为习知之残留气体之清除装置较佳实施例之示意图。第二图系为本创作残留气体之清除装置较佳实施例之示意图。 |
