| 摘要 |
对工作周期在造影装置的输出位准上的效应,以及在造影装置的输出与其标的物之间距离的周期性变化上的效应作出补偿,是依电子方式完成的。一种典范的设备包括一辐射源(通常为雷射),其输出位准会因输入位准及所不想要地因工作周期而变化。此种设备也包括将辐射聚焦到记录表面之上的装置,以及用于驱动辐射源的电源。在二极体雷射的例子里,电源会送出可变电流而其大小则决定了电射的功率输出率。操作辐射源以便在记录表面产生光点的影像化图案,且有一个调节设施会改变电源输出以补偿因工作周期一亦即来自雷射活动状态的最近图案一而导致的输出位准变化。于第一实施例中,本发明含有一个上-下计数器会于扫描整体记录用媒体时依系列形式接收用以决定辐射源状态的相同之二进位影像资料当作输入(只在邻近记录用媒体上将要写入的位置时造成射源的启动)。当辐射源处于活性状态时计数器会在时钟周期内递增而会在非活性周期内递减。结果,计数器的状态一般会反应出辐射源活动的最近图案,且以其内容校正数值的清单定址。于第二实施例中,将系列的影像资料施加于移位暂存器而不是计数器中。这为最近活动状态的图案提供了更正确的记录,并再一次以暂存器的瞬时内容为校正数值的清单定址。为了对造影装置的输出位准上的旋转偏心效应作补偿,而将一种功能其反转或至少反制所产生之功率变化施加于操作辐射源之电源。 |
| 主权项 |
1.一种为记录结构造影的装置,包括: a.其输出位准会因输入位准及工作周期而变化的 辐射源; b.将辐射聚焦到记录结构表面之上的装置; c.与辐射源耦合以提供输入功率的电源; d.操作辐射源以便在记录表面产生影像化图案光 点的装置;以及 e.调节电源输出以补偿因工作周期而导致输出位 准变化的装置。2.如申请专利范围第1项之装置,其 中该辐射源包括一个雷射而该操作装置包括: a.用于接收一系列各与位置相关的资料値并标明 雷射输出位准的装置; b.用于造用雷射与其表面之间的相对运动以实施 表面之扫描程序的装置;以及 c.用于根据表面上相应位置的资料値发动雷射的 装置, 该调节装置是能够回应新近的资料値和多个先前 的资料値。3.如申请专利范围第2项之装置,其中该 资料是相应于雷射之动作状态的二进位数,该调节 装置包括: a.含有一系列储存校正値的电脑记忆体;以及 b.连接到电脑记忆体且具有能回应资料之状态的 上-下计数器,计数器的状态标明了校正値之一,而 调节装置则根据所标明的校正値而调节电源。4. 如申请专利范围第3项之装置,更包括用于设定资 料値的最大数目的控制逻辑电路而计数器的状态 则是以这些资料値为基础。5.如申请专利范围第2 项之装置,更包括: a.用于支撑表面的圆柱; b.用于旋转圆柱的装置,此旋转具有偏心率; c.用于使雷射作轴向运动的装置,扫描是因圆柱之 旋转及雷射的轴向运动而实施,该偏心率会造成达 表面的雷射功率密度之变化, 该调节装置会调节电源以补偿因偏心率而造成雷 射功率密度上的变化以及由工作周期的变化而在 输出位准上生成的变化。6.如申请专利范围第2项 之装置,其中该资料是相应于雷射之动作状态的二 进位数,该调节装置包括: a.含有一系列储存校正値的电脑记忆体;以及 b.其内容含有许多先前资料値的移位暂存器,此移 位暂存器是连接到电脑记忆体且此移位暂存器的 内容标明了校正値之一,而该调节装置则根据所标 明的校正値而调节电源。7.一种为能回应-雷射之 记录结构造影的装置,包括: a.用于支撑记录用结构的圆柱; b.其输出位准会因输入功率准位而变化的辐射源; c.将辐射聚焦到记录表面之上的装置; d.与辐射源耦合以提供输入功率的电源; e.用于旋转圆柱的装置,此旋转具有偏心率; f.用于使辐射源作轴向运动的装置,以便实施对于 旋转圆柱的扫描,该偏心率会使到达表面的雷射功 率密度上产生变化; g.操作辐射源以便在记录表面产生光点之影像化 图案的装置;以及 h.调节电源以补偿因偏心率而造成功率密度变化 的装置。8.一种为记录结构造影的方法,此方法包 括的步骤有: a.提供其输出位准会随输入位准及工作周期而变 化的辐射源; b.将辐射聚焦到记录结构表面之上; c.操作辐射源以便在记录表面产生光点之影像化 图案;以及 d.调节电源以补偿因工作周期变化而导致输出位 准变化。9.如申请专利范围第8项之方法,其中该辐 射源包括一个雷射而其操作步骤包括: a.用于接收一系列各与位置相关的资料値并标明 雷射输出位准; b.造成雷射与其表面之间的相对运作以实施表面 之扫描;以及 c.根据表面上相应位置的资料値启动雷射, 此调节程序是根据现有的资料値和多数个先前的 资料値而达成的。10.如申请专利范围第9项之方法 ,其中该资料是二进位数字而相对应于一雷射之活 动状态,其调整步骤包括: a.提供含有一系列包含储存校正値的电脑记忆体; b.提供连接到电脑记忆体且具有能回应该资料之 一状态的上-下计数器,此计数器的状态则标明了 校正値之一;以及 c.根据所标明的校正値而调节电源。11.如申请专 利范围第10项之方法,更包括设定资料値的最大数 目的步骤而计数器的状态则是根据这些资料値为 基础。12.如申请专利范围第9项之方法,更包括了 下列步骤: a.提供用于支撑表面的圆柱; b.以某种偏心率旋转圆柱; c.轴向地移动雷射,扫描程序是因圆柱之旋转及雷 射的轴向移动而实施,该偏心率会使到达表面的雷 射功率密度之变化, 调节步骤以补偿因偏心率而造成功率密度上的变 化以及由工作周期的变化而造成之输出位准之变 化。13.如申请专利范围第9项之方法,其中该资料 是相应于雷射之活动状态的二进位数,该调节步骤 包括: a.提供含有一系列储存校正値的电脑记忆体; b.将多数个先前的资料値储存成依时间顺序排列 的清单,且当接收到新的资料値时,将之加进清单 并将最旧的数値移出清单,清单中的数値会标明出 校正値之一;以及 c.根据所标明的校正値而调节电源。14.一种为能 为回应-雷射之记录用结构造影的方法,此方法包 括: a.提供用于支撑记录结构的圆柱; b.提供其输出位准会因输入功率位准而变化的辐 射源; c.将辐射聚焦到记录结构表面之上; d.以某种偏心率而旋转圆柱; e.轴向地移动辐射源以便实施对旋转中圆柱的扫 描,该偏心率会造成到达记录表面的功率密度之变 化; f.操作辐射源以便在记录表面产生光点之影像图 案;以及 g.调节输入功率位准以补偿因偏心率而造成之功 率密度之变化。15.如申请专利范围第14项之方法, 其中因偏心率而造成之功率密度之变化是跟随着 一个周期函数,该调节步骤包括将此周期函数的逆 函数施加于输入功率位准。16.如申请专利范围第 14项之方法,其中因偏心率而造成功率密度之变化 本身会沿圆柱作轴向改变,该调节步骤包括以辐射 源的轴向移动改变其调节。17.如申请专利范围第 16项之方法,其中辐射源每通过圆柱一次则因偏心 率而造成功率密度上的变化便会跟随着一个周期 函数,对每一趟而言该调节步骤都是将此周期函数 的逆函数加到输入功率位准。图式简单说明: 第一图系用以简略说明有利地应用本发明的代表 性造影环境。 第二图显示的是习知(习用设计)雷射-晶体配置中 随工作周期而变化的光点尺寸。 第三图A系用以显示圆柱的偏心旋转如何造成书写 头与圆柱表面之间距离产生变化的层析简图。 第三图B说明在圆柱的完整旋转期间发生于光点尺 寸上之效应的曲线图。 第四图A系用以校正因圆柱的偏心旋转而导致的功 率变化之电路的简略图示。 第四图B系说明以第四图A以电路施行校正功能的 曲线图。 第五图系用以校正因工作周期的变化而导致的功 率变化之电路的简略图示。 第六图系如第五图之替代电路的简略图示。 |
