| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft Verfahren zum Beschichten einen Substrats (8) mit einer oder mehreren dünnen Schichten (10) unter Verwendung einer Strahlungsquelle (3), bei dem ein Schichtrohmaterial (7) zwischen dem Substrat (8) und einer dem Substrat (8) gegenüberliegenden formveränderbaren Festkörperoberfläche (2a, 30a) vorhanden ist. Zumindest ein Teil des Schichtrohmaterials (7) wird durch geeignetes Einbringen von Strahlungsenergie (6) verändert und haftet dadurch an dem Substrat (8) an. Die nun am Substrat (8) anhaftende Schicht (10) und die formveränderbare Festkörperoberfläche (2a) werden voneinander getrennt. Ferner betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zur Beschichtung.</p> |
