| 发明名称 | 点矩阵式暗码图案全像片 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种点矩阵式暗码图案全像片,以解决暗码图案被重建出的位置相对于镭射产生明显移动的问题,本实用新型包括全像片本体,本体中包括一由许多相同的光栅点区块二维周期性排列而成的暗码图案隐藏区域,各光栅点区块中包含的光栅点数目和组成暗码图案的亮成分点数目相等,同一光栅点区块中的不同光栅点位于可绕射出组成暗码图案不同亮成分点的位置,本实用新型的全像片可以是反射式、穿透式、部分穿透部分反射式全像片。 | ||
| 申请公布号 | CN2433640Y | 申请公布日期 | 2001.06.06 |
| 申请号 | CN99241875.5 | 申请日期 | 1999.08.17 |
| 申请人 | 华锦光电科技股份有限公司 | 发明人 | 叶胜利;蔡亦恩;林修弘 |
| 分类号 | G02B5/32 | 主分类号 | G02B5/32 |
| 代理机构 | 北京市专利事务所 | 代理人 | 王燕秋 |
| 主权项 | 1、一种点矩阵式暗码图案全像片，包括全像片本体，其特征在于：所述本体包括一由许多相同的光栅点区块二维周期性排列而成的暗码图案隐藏区域，所述各光栅点区块中包含的光栅点数目和组成暗码图案的亮成分点数目相等，所述同一光栅点区块中的不同光栅点位于可绕射出组成暗码图案不同亮成分点的位置。 | ||
| 地址 | 中国台湾 | ||