| 发明名称 | 含有不饱和双键的聚羧酸树脂、其制备方法及其用途 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种含有不饱和双键的聚羧酸树脂,在其主链上含有至少两个酯基或主链上含有至少两个酯基及氨基甲酸酯基。本发明又涉及一种上述的聚羧酸树脂的制备方法。同时还涉及一种含有上述聚羧酸树脂的感光性树脂组合物,该组合物具有优良的耐热性、耐酸性及抗化学性,其可作为光照反应的碱溶性显像光阻剂或印刷电路板的抗焊光阻剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1297954A | 申请公布日期 | 2001.06.06 |
| 申请号 | CN99125255.1 | 申请日期 | 1999.12.01 |
| 申请人 | 大东树脂化学股份有限公司 | 发明人 | 唐定国;林逸舟 |
| 分类号 | C08G63/52;G03F7/00 | 主分类号 | C08G63/52 |
| 代理机构 | 隆天国际专利商标代理有限公司 | 代理人 | 郑霞;杨淑媛 |
| 主权项 | 1．一种含有不饱和双键的聚羧酸树脂，其特征在于，该聚羧酸树脂主链上含有至少两个酯基或主链上含有至少两个酯基及氨基甲酸酯基。 | ||
| 地址 | 台湾省台中市工业区 | ||