| 发明名称 |
METHOD FOR DEPOSITION OF SILICON DIOXIDE FILMS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US3625749(A) |
申请公布日期 |
1971.12.07 |
| 申请号 |
USD3625749 |
申请日期 |
1967.03.31 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRONICS CORP. |
发明人 |
SATOSHI YOSHIOKA;SHIGETOSHI TAKAYANAGI |
| 分类号 |
C23C16/40;(IPC1-7):C23C11/08;C23C11/00 |
主分类号 |
C23C16/40 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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