| 摘要 |
<p>본 고안은 반도체 제조용 웨트 스테이션에 관한 것으로, 종래에는 탱크에 담겨있는 염산이 액체와 기체의 혼합으로 되어 있기 때문에 시간이 지날수록 주위의 산소 성분과 반응을 일으켜 파우더(powder)로 변하고, 이 파우더는 주위의 부품들을 자주 손상시키고 라인으로 확산되어 각종 금속류를 오염시키는 문제점이 있었던 바, 본 고안의 반도체 제조용 웨트 스테이션은 탱크 주위의 시스템을 외부와 완전히 밀폐시킨 후 질소를 공급하여 분위기를 질소화함으로써, 장치의 각종 부식을 방지하고 안전성의 극대화와 청정실의 오염을 최소화할 수 있게 한 것이다.</p> |
