| 主权项 |
1.一种(全)氟化聚有机矽氧烷(POS),包括如下通式(I)和(II)物种:其中:R1,R2=甲基,丙基或丁基;e1+d1=3;e2+d2=3;p1,p2≧;p1+p2≧1;0≦y1≦100,但若y1=0则d1及/或d2=1;0≦y≦500;1≦p'≦9;0≦y1'≦1;0≦'≦5;Gf1=Gf,此处h=k=1而g=j=0;Gf2=Gf,此处h=g=1,k=1或2而Z2=或-为(全)氟化官能单价基团,于其存在的P1或P2矽氧单位D及/或两个矽氧单位M为同型或不同型,-平均式如下:注:全文中粗线-表示的自由价键为直接或间接接至POS之矽且最近该矽者。但至少一个Gf1及Gf2基团其中k≠0存在于POS(I)或(II);Z1为式 二价基团,此处m≧2,但若m=2,则至少若干基转Gf2为其中g≠0之基团,选择性至少一个取代Z1碳之氢被直链或分支C1-C6-低碳烷基;Z3为式-U-CnH2n-二价基团,此处n≧1而U=O,S,NH或NHSO2;及Rf为(全)氟化基团。2.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中c1=2及d1=1:3.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中c2=2及d2=1:4.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中0≦y1≦50,若y1=0,d1及/或d2=1。5.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中1≦p'≦4.5。6.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中0≦y'1≦0.25。7.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中0≦y'≦0.5。8.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中R1及R2为C1-C6(环)烷基。9.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中R1及R2为芳基,芳烷基或烷芳基。10.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中至少一个取代Z1之碳之氢被甲基置换。11.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中R2=CH3。12.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中Rb=甲基。13.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其中Rf为-CqF2q-CF3 此处q≧0;-CqF2q-H 此处q≧1;-NrrfSO2CqF2q-CF3 此处q≧0而Rrf =H,芳基,或 直链或分支C1-C6- 低碳烷基,较佳 甲基;及-NrrfSO2CqF2q-H 此处q≧1,Rrf 定义如上。14.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其具有下式(I.1.1);此处y,y1,p1,p2和Gf=Gf1或Gf1或Gf2定义如申请专利范围第1项,而R和R为相同或相异且为氢或C1-C6-烷基。15.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其包括至少一种由选自下列小组之至少一种全氟化基团Gf取代之物种(I)及/或(II):→(i)此处:Ra和R9分别为氢或直链或分支C1-C6-低碳烷基;R10和R11分别为羟基,直链或分支C1-C6烷氧基或Z3Rf,R10与R11至少一个为Z3Rf;及I=0-10;→(ii)此处R9,Ra,R10,R11,I定义如上;→(iii)此处R9,R10,R11,i定义如上;选择性己环可经取代;及→前述基团之混合物。16.根据申请专利范围第15项之聚有机矽氧烷,其中Ra及R9分别为CH3。17.根据申请专利范围第15项之聚有机矽氧烷,其中i为0至3。18.根据申请专利范围第17项之聚有机矽氧烷,其中i为1。19.根据申请专利范围第15项之聚有机矽氧烷,其包括至少一种由下列基团取代之物种(I)及/或(II):○至少一种根据申请专利范围第15项所定义之(全)氟化如上定义之(i),(ii)或(iii)基团Gf,其中基团R10和R11对应于Z3Rf为:○选择性至少一个基团Gf(i),(ii)或(iii),其中基团体R10和R11之一为Z3RF而另一异于是Z3Rf,有利地对应于羟基,直链或分支C1-C6-烷氧基。20.根据申请专利范围第19项之聚有机矽氧烷,其中R10或R11相当于OH或直链或支链C1-C6-烷氧基。21.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷,其亦包括:-矽氧单位T=-[R8SiO3/2]-此处不同单位之基团R8为相同或相异,定义如上(特别,申请专利范围第1和第4项)R1,R2和Gf;及-矽氧单位Q=[SiO4/2]。22.一种制备如申请专利范围第1至第21项中任一项之(全)氟化聚有机矽氧烷之方法,主要包括反应:-A→至少一种聚烷基氢矽氧烷-B→至少一种(全)氟化烯烃,其为如申请专利范围第1项定义之Gf1前驱物具有式Gf1p:Z1pRf其中:Z1p为Z1烯烃前驱物,Rf定义如申请专利范围第1项上;Z1中之m>2,-C→于有效量之金属氢矽烷化触媒基于铂存在下反应。23.根据申请专利范围第22项之方法,其中A为至少一种聚甲基氢矽氧烷油。24.根据申请专利范围第22项之方法,其中该油A系与下列反应:-B'→至少一种(全)氟化烯烃,其为如申请专利范围第2项定义之Gf1前驱物具有式Gf1p:Z1pRf其中:Z1p为Z1烯烃前驱物,Rf定义如上;Z1中之m=2,-D→至少一种式Z1pZ2p烯烃其中Z1p为Z1之烯烃前驱物而Z2p为Z2之前驱物,-B→及/或与如申请专利范围第23项定义之反应物B反应,-C→于有效量之金属氢矽烷化触媒基于钴及/或铂存在下反应,反应产物A+B'+D及/或B选择性接触反应物E:-E→Z3pRf型此处Z3p为如上定义之Z3和Rf之前驱物而形成一或多个基团Gf2。25根据申请专利范围第22或24项之方法,其中该油A系与下列反应:-D'→至少一种式Z1pZ2p烯烃其中:Z1p为Z1之烯烃前驱物,而Z2p为Z2之前驱物,-C→于有效量之金属氢矽烷化触媒基于铂存在下反应,反应产物A+D'选择性接触反应物E':-E'→Z3pRf型此处Z3p为如上定义之Z3和Rf之前驱物而形成一或多个基团Gf2。26.一种制备如申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷之方法,聚有机矽氧烷系为环状或线性,主要包括反应:-A→至少一种聚烷基氧矽氧烷-F→至少一种(全)氟化烯烃,其为Gf前驱物且具式(Gfp);其中:Z1p为基团Z1烯属前驱物(定义如申请专利范围第1项)及Z2,Z3,Rf,h,g,j和k亦定义如申请专利范围第1项;但:-C→于有效量之金属氢矽烷化触媒较佳基于铂存在下反应。27.根据申请专利范围第26项之方法,其中A为至少一种聚甲基氢矽氧烷油。28.根据申请专利范围第26项之方法,其中该Gf之前驱物Gfp具有下式之一式:此处:Ra和R9分别为氢或直链或分支C1-C6-低碳烷基;R10和R11分别为羟基,直链或分支C1-C6-烷氧基或Z3Rf,R10与R11至少一个为Z3Rf;及i=0-10;此处R9,Ra,R10,R11,i定义如上;此处R9,R10,R11,i定义如上;选择性己环可经取代。29.根据申请专利范围第28项之聚有机矽氧烷,其中Ra及R9分别为CH3。30.根据申请专利范围第28项之聚有机矽氧烷,其中i为0至3。31.根据申请专利范围第30项之聚有机矽氧烷,其中i为1。32.根据申请专利范围第28项之方法,其中该Gf之前驱物Gfp含有一或二个全氟化基R10,R11(R10及/或R11为Z3Rf)且系经由反应下列成分而得:→至少一种含活性氢之化合物,系由申请专利范围第1项定义之氢化基团Z3Rf,亦即,H-Z3Rf组成,→与根据申请专利范围第28项所定义式(ip),(iip)或(iiip)化合物生成的起始物料(其中R10和R11基团之至少一个为直链或分支C1-C6烷氧基,根据转移酯化机转反应。33.根据申请专利范围第32项之方法,其中含活性氢之化合物为醇或硫醇。34.一种可用于如申请专利范围第26项之方法且具下式之一之反应中间物(synthon):在此处Ra和R9分别为氢或直链或分支C1-C6-低碳烷基;及R10和R11中之至少一者对应直链或分支C1-C6-烷氧基;及此处R9,Ra,R10,R11,i 定义如上;此处R9,R10,R11,及i定义如上;选择己环可经取代。35.根据申请专利范围第34项之中间物,其中C1-C6烷氧基为甲氧基、乙氧基或丙氧基。36.根据申请专利范围第24项之方法,其中:至少若干接枝至油A之Z2之前驱物Z2p为酸酐,水解至少若干酐基而产生自由羧端,及以Z3Rf类型反应物酯化至少若干自由羧端,Z3p为Z3前驱物而Z3和Rf亦定如申请专利范围第1项。37.根据申请专利范围第7项之方法,其中该基团Z2p与基团Z3p间之反应为酯化反应。38.根据申请专利范围第37项之方法,其中Z2p为酸型而Z3p为酯型。39.一种水乳液,其含有:-至少一种如申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷或经由如申请专利范围第22项之方法所得之聚有机矽氧烷;-水;和-至少一种界面活性剂。40.根据申请专利范围第1项之聚有机矽氧烷或经由如申请专利范围第22项之方法所得之聚有机矽氧烷,其系作为:-消泡剂-润滑剂-抗黏着剂-表面张力降低剂-去污剂-疏油及/或疏水剂及-对抗化学攻击与溶剂之弹性体或薄膜生产原料。41.一种去污组成物,包括:-至少一种根据申请专利范围第1至21项中任一项之POS或经由如申请专利范围第22-32,36和37项中任一项之方法所得之聚有机矽氧烷,-及/或至少一种如申请专利范围第39项定义之乳液,-所用聚有机矽氧烷含有: |
