发明名称 改良之研磨盘
摘要 提供具有自圆周除去之间距部份形成具有圆的及延伸V形之磨盘,当使用时,一正在研磨之工作件之全部视线会使障碍物所造成之阻碍有减少之倾向。
申请公布号 TW436372 申请公布日期 2001.05.28
申请号 TW088121999 申请日期 1999.12.15
申请人 诺妥公司 发明人 瑞裘N.亚米;约瑟夫米林斯基;葛兰R.克诺顿
分类号 B24B7/00 主分类号 B24B7/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种研磨盘具有一通常呈圆形之轮廓,其在使用时具有一指定之旋转方向,该圆盘具有自三到九处自圆盘圆周除去之间距部份,每个这样部份具有对于圆盘旋转时之指定方向所界定之前缘与后缘,及一由前缘、后缘交会于圆周上之点间之圆周距离所界定之长度,及其中除去部份在圆盘中之最深径向穿透发生接在各除去部份之前缘。2.根据申请专利范围第1项之研磨盘,其中,对各除去部份,其前缘及后缘交会在圆盘之圆周上由一圆周距离X所分开之点上,其中X少于圆盘圆周之六分之一,而该圆盘在一半径上具有一最短之半径尺寸,其交会在圆周上之一点其少于三分之一之自前缘交会在圆周点上之距离X。3.根据申请专利范围第1项之研磨盘其中各除去部份之前及后缘交会在圆周上之圆角中。4.根据申请专利范围第1项之研磨盘其中自圆盘圆周之除去部分之数量为3。5.根据申请专利范围第1项之研磨盘其中之圆盘装备有孔其位在圆周之除去部份之间及在一构成圆盘中心之一半径距离其少于圆盘之最短径向尺寸。6.根据申请专利范围第5项之研磨盘其中之孔位在使用时可以提供孔之协合效应及自圆周之除去部份可经由至少圆盘之一半之半径做连续之观察。图式简单说明:第一图系本发明之较佳研磨盘之轮廓。
地址 美国