发明名称 自含一或多种二元酸之反应混合物中去除触媒之方法及进行烃转化为二元酸之氧化作用之装置
摘要 一种自含有一或多种二元酸之反应混合物中去除触媒之方法,该反应混合物系在触媒、水和单元酸溶剂之存在下,使烃与氧化剂于一氧化区中反应后所形成,该方法系特征于下列步骤:(a)在第一触媒沉淀区域内使部份触媒沉淀,其系藉由自反应混合物中除去至少部份之水,及/或控制温度至适度高,而造成部份触媒沉淀;(b)除去沉淀之触媒,因此形成包含溶解触媒、单元酸溶剂和一或多种二元酸之第二母液;(c)除去至少部份单元酸溶剂,并使一或多种二元酸熔化,直到触媒在第二触媒沉淀区域内沉淀为止;及(d)除去在步骤(c)中沉淀之触媒。一种进行烃转化为二元酸之氧化作用之反应器装置,该氧化作用系在触媒和单元酸溶剂之存在下,于反应混合物中进行,随后系进行触媒自该反应混合物之两阶段分离作用,该反应器装置系特征于:一氧化室;一与反应室连接之第一触媒沉淀组装,该第一触媒沉淀组装系包括至少一个脱水站,及第一热处理站;及一与该第一触媒沉淀组装连接之第二触媒沉淀组装,该第二触媒沉淀组装系包括一蒸发器及第二热处理站。
申请公布号 TW436319 申请公布日期 2001.05.28
申请号 TW087120260 申请日期 1998.12.07
申请人 第二十一世纪研究公司 发明人 犹塔瑟斯法司流;马克W.戴索;阿德M.罗思塔咪;大卫C.迪寇斯特;道格拉斯J.杜吉恩
分类号 B01D53/34 主分类号 B01D53/34
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种自含有一或多种二元酸之反应混合物中去除触媒之方法,该反应混合物系在触媒、水和单位酸溶剂之存在下,使烃与氧化剂于一氧化区中反应后所形成,该方法系特征于下列步骤:(a)在第一触媒沉淀区域内使部份触媒沉淀,其系藉由自反应混合物中除去至少部份之水,及/或控制温度至适度高,而造成部份触媒沉淀;(b)除去沉淀之触媒,因此形成包含溶解触媒、单元酸溶剂和一或多种二元酸之第二母液;(c)除去至少部份单元酸溶剂,并使一或多种二元酸熔化,直到触媒在第二触媒沉淀区域内沉淀为止;及(d)除去在步骤(c)中沉淀之触媒。2.根据申请专利范围第1项之方法,其进一步包括使步骤(b)及/或(d)中沉淀之触媒再循环至氧化区域之步骤。3.根据申请专利范围第1项之方法,其进一步包括于步骤(a)之前,部份地去除一或多种二元酸之步骤。4.根据申请专利范围第2项之方法,其进一步包括于步骤(a)之前,部份地去除一或多种二元酸之步骤。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中该烃包含一种选自由环己烷、环己酮、环己醇、环己基过氧化氢及其混合物所组成之群之化合物,氧化剂包含氧,且该二元酸中之一系包含己二酸。6.根据申请专利范围第2项之方法,其中该烃包含一种选自由环己烷、环己酮、环己醇、环己基过氧化氢及其混合物所组成之群之化合物,该氧化剂包含氧,而该二元酸中之一系包含己二酸。7.根据申请专利范围第1项之方法,其中该自步骤(c)中去除之单元酸,系使用于步骤(a)以自反应混合物中除去水。8.根据申请专利范围第2项之方法,其中该自步骤(c)中去除之单元酸,系使用在步骤(a)以自反应混合物中除去水。9.根据申请专利范围第1项之方法,其中该方法进一步包括使至少一种二元酸与一选自由多元醇、多元胺和多元醯胺所组成之群之反应物反应之步骤,其方式系为使之分别形成聚酯、聚醯胺或(聚醯亚胺及/或聚醯胺醯亚胺)之聚合物。10.根据申请专利范围第9项之方法,其进一步包括将聚合物纺成纤维之步骤。11.根据申请专利范围第2项之方法,其中该方法进一步包括使至少一种二元酸与一选自由多元醇、多元胺和多元醯胺所组成之群之反应物反应之步骤,其方式系为使之分别形成聚酯、聚醯胺或(聚醯亚胺及/或聚醯胺醯亚胺)之聚合物。12.根据申请专利范围第11项之方法,其进一步包括将聚合物纺成纤维之步骤。13.根据申请专利范围第2项之方法,其中该方法进一步包括使至少一种二元酸与一选自由多元醇、多元胺和多元醯胺所组成之群之反应物反应之步骤,其方式系为使之分别形成聚酯、聚醯胺或(聚醯亚胺及/或聚醯胺醯亚胺)之聚合物。14.根据申请专利范围第13项之方法,其进一步包括将聚合物纺成纤维之步骤。15.根据申请专利范围第6项之方法,其中该方法进一步包括使至少一种二元酸与一选自由多元醇、多元胺和多元醯胺所组成之群之反应物反应之步骤,其方式系为使之分别形成聚酯、聚醯胺或(聚醯亚胺及/或聚醯胺醯亚胺)之聚合物。16.根据申请专利范围第15项之方法,其进一步包括将聚合物纺成纤维之步骤。17.根据申请专利范围第1至16项中任一项之方法,其进一步包括在步骤(c)中添加含戊二酸之添加物之步骤。18.一种进行烃转化为二元酸之氧化作用之反应器装置,该氧化作用系在触媒在单元酸溶剂之存在下,于反应混合物中进行,随后系进行触媒自该反应混合物之两阶段分离作用,该反应器装置系特征于:一氧化室;一与反应室连接之第一触媒沉淀组装,该第一触媒沉淀组装系包括至少一个脱水站,及第一热处理站;及一与该第一触媒沉淀组装连接之第二触媒沉淀组装,该第二触媒沉淀组装系包括一蒸发器及第二热处理站。19.根据申请专利范围第18项之反应器装置,其进一步包括一配置于该氧化室和第一触媒沉淀组装间之二元酸沉淀站。20.根据申请专利范围第18项之反应器装置,其中该二元酸去除站包括一急骤结晶器。21.根据申请专利范围第18项之反应器装置,其进一步包括一配置于第一触媒沉淀组装和第二触媒沉淀组装间之第一触媒分离器,该第一触媒分离器系经过第二母液管线与第二触媒沉淀站连接,而自沉淀触媒中分离之第二母液可经其转送至第二触媒沉淀组装中,第一触媒分离器亦与第二固体去除管线连接,至少部份之沉淀触媒可经其去除。22.根据申请专利范围第21项之反应器装置,其进一步包括一配置于第二触媒沉淀组装后面之第二触媒分离器,该第二触媒分离器系与第三母液管线连接,第二触媒分离器亦与第三固体去除管线连接,至少一部份沉淀触媒可经其去除。23.根据申请专利范围第21项之反应器装置,其中该第二固体去除管线系与氧化室连接,以使来自第一触媒分离器之沉淀解媒可再循环至氧化室中。24.根据申请专利范围第22项之反应器装置,其中该第三母液管线系与再循环母液管线连接,其系依次与第二触媒沉淀组装连接,以使于需要时,第三母液可自第二触媒分离器部份再循环至第二触媒沉淀组装中。25.根据申请专利范围第18项之反应器装置,其进一步包括一使来自蒸发器之单元酸溶剂再循环至脱水站之装置。26.根据申请专利范围第18至25项中任一项之反应器装置,其进一步包括一与第二热处理站连接之装置,以将包含戊二酸之添加物加至该第二热处理站中。图式简单说明:第一图例举说明本发明之较佳具体实施例之方块图。
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