发明名称 组件之表面去除污染时所用之方法
摘要 本发明系关于纲制组件之表面去除污染时所用之方法,尤指低合金钢或非合金钢。表面对此与以含有机酸的溶液接触。甚被提供,此溶液为在直接暴露的基材金属表面上立刻构成保护层,亦可含有二价铁离子。当保护层在本来去除污染结束不再需要时,可减少溶液内铁离子含量,故保护层即藉通常溶解消除。不再需要的铁离子则与离子交换树脂结合。造成污染的离子可同样为之。
申请公布号 TW436815 申请公布日期 2001.05.28
申请号 TW088119476 申请日期 1999.11.08
申请人 西门斯股份有限公司 发明人 荷斯特–奥托件特荷尔特
分类号 G21F9/00;A62D3/00 主分类号 G21F9/00
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种钢组件表面之去污方法,该钢尤指低合金或 非合金钢,令表面与含有机酸之溶液接触,而污染 层则由组件的基材表面溶解,其特征为溶液又含有 二价铁离子,藉此在基材金属表面的暴露部位立即 构成保护层,在污染层溶解结束后,保护层即因溶 液内二价铁离子含量减少又溶解,而不再需要的二 价铁离子和造成染的物质,即结合于离子交换树脂 上者。2.如申请专利范围第1项之方法,其中有机酸 系草酸者。3.如申请专利范围第1或2项之方法,其 中二价铁离子系添加于溶液内者。4.申请专利范 围第1或2项之方法,其中此二价铁离子由污染层或 由基材金属溶出者。5.如申请专利范围第3项之方 法,其中此二价铁离子由污染层或由基材金属溶出 者。6.申请专利范围第1或2项之方法,其中此二价 铁离子由三价铁藉紫外线照而得者。7.申请专利 范围第3项之方法,其中此二价铁离子由三价铁藉 紫外线照而得者。8.申请专利范围第4项之方法,其 中此二价铁离子由三价铁藉紫外线照而得者。9. 如申请专利范围第2项之方法,其中此不再需要的 草酸藉紫外线光与过氧化氢,分解成二氧化碳者。 10.如申请专利范围第4项之方法,其中此不再需要 的草酸藉紫外线光与过氧化氢,分解成二氧化碳者 。11.如申请专利范围第6项之方法,其中此不再需 要的草酸藉紫外线光与过氧化氢,分解成二氧化碳 者。
地址 德国