CHEMICAL MECHANICAL POLISHING HEAD HAVING FLOATING WAFER RETAINING RING AND WAFER CARRIER WITH MULTI-ZONE POLISHING PRESSURE CONTROL,申请号KR1020007012236-传众专利搜索

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发明名称	CHEMICAL MECHANICAL POLISHING HEAD HAVING FLOATING WAFER RETAINING RING AND WAFER CARRIER WITH MULTI-ZONE POLISHING PRESSURE CONTROL
摘要
申请公布号	KR20010043277(A)	申请公布日期	2001.05.25
申请号	KR1020007012236	申请日期	2000.11.03
申请人		发明人
分类号	B24B37/00	主分类号	B24B37/00
代理机构		代理人
主权项
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