| 主权项 |
1.一种晶圆光阻胶涂布机的胶锅光阻胶溶剂供给结构之改良,其至少包括:一胶锅座,其中央凹设一胶锅室,及一容置在上述胶锅室内部之胶锅;其特征在于:胶锅周侧系由顶部向周侧向下呈一渐形扩散之立体半球弧面,该半球弧面周侧环设有复数阶流道,而于胶锅顶周侧及最上层之阶层流道内设有复数溶剂溢出孔者。2.如申请专利范围第1项所述之晶圆光阻胶涂布机的胶锅光阻胶溶剂供给结构之改良,其中之胶锅室底侧中央贯设一中央孔,中央孔内容置一可上、下滑移之驱动轴,胶锅室底侧并于中央孔周侧环设一环形定位榫,该环形定位榫旁侧另留有一排流孔;且胶锅顶侧中央凹设一盘座容置部,盘座容置部内贯设一中央孔,并具有,一外框套,系套置于前述胶锅座之胶锅室上,其中央贯设一中央孔,可使胶锅顶部之盘座容置部向外凸伸;及一吸附盘座,顶侧环设复数相连通之吸附引道,吸附引内共设有复数真空吸孔,吸附盘座底侧设有一衔接座,可与前述胶锅座内之驱动轴结合。3.如申请专利范围第1项所述之晶圆光阻胶涂布机的胶锅光阻胶溶剂供给结构之改良,其中胶锅座于胶锅室外周凸设有复数凸榫,而外框套于外周缘相对位置设有定位槽,藉定位槽与凸榫嵌合,可使外框套与胶锅座形成定位者。4.如申请专利范围第1项所述之晶圆光阻胶涂布机的胶锅光阻胶溶剂供给结构之改良,其中外框套之中央孔周侧向光阻胶溶剂供给结构之改良,其中外框套之中央孔周侧向内呈一下凹之斜面者。5.如申请专利范围第1项所述之晶圆光阻胶涂布机的胶锅光阻胶溶剂供给结构之改良,其中胶锅座底侧之排流孔内设有可喷出溶剂之排流喷洗管者。图式简单说明:第一图A为晶圆制造之部份机具流程示意图(一)。第一图B为晶圆制造之部份机具流程示意图(二)。第二图为本创作之构造分解图。第三图为本创作之整体立体外观图。第四图A为本创作之吸附盘座上昇动作剖面示意图。第四图B为本创作之吸附盘座收合动作剖面示意图。 |
