| 主权项 |
1.一种中置元件之中空电感,包括:一基底;一导电层,设置于该基底上,形成一连续之螺旋线且该螺旋线中心处留有一空置区;一接合垫,设置于该空置区内且与该导电层所形成之螺旋线近中心之一端电性连接。2.如申请专利范围第1项所述之中空电感,其中该接合垫系被切割成复数区块,每一区块均与该螺旋线近中心之一端电性连接。3.一种中置元件之中空电感,包括:一基底;一导电层,设置于该基底上,形成一连续之螺旋线且该螺旋线中心处留有一空置区;一电容器,设置于该空置区内且与该导电层所形成之螺旋线近中心之一端电性连接。4.如申请专利范围第3项所述之中空电感,其中该电容器系被切割成复数区块,每一区块均与该螺旋线近中心之一端电性连接。5.如申请专利范围第3项所述之中空电感,其中该电容器系一MIM电容。6.如申请专利范围第3项所述之中空电感,其中该基底系为一矽基底。7.如申请专利范围第3项所述之中空电感,其中该基底系为一砷化镓基底。图式简单说明:第一图系一习知技术中之中空电感结构;第二图A及第二图B系本发明两实施例之中空电感结构;第三图显示第二图之实施例与第一图习技术之中空电感结构进行EM simulation之结果。 |
