发明名称 经化学增幅之正型光阻材料
摘要 本发明系在于提供可感应于远紫外线、电子线、X线等高能量线,特别是KrF错合物激光,具优良感度,解像性,耐等离子蚀刻性等优点,及具优异光阻图样耐热性,并且适合微细加工技术之具有高解像性,实用性极高之化学增幅之正型光阻材料。其特征为所含作为溶解控制剂之化合物系重量平均分子量为100~1000,且分子内含有2个以上苯酚性羟基之化合物的该苯酚性羟基中氢原子受酸不稳基平均部份取代10~8O%的化合物。
申请公布号 TW434459 申请公布日期 2001.05.16
申请号 TW085106341 申请日期 1996.05.28
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 山 润;名仓茂;本海清;永田岳志;石原俊信
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种经化学增幅之正型光阻材料,其特征为所含作为溶解控制剂之化合物系重量平均分子量为100-1,000,且分子内含有2个以上苯酚性羟基之化合物,且该苯酚性羟基之氨原子受酸不稳定基平均部份取代10-80%之化合物,又,上述含有2个以上苯酚性羟基之化合物系为一种或二种以上选自以下式(1)-(9)所示化合物者,(其中,R1,R2各为氢原子或碳数1-8之直链或支链烷基或烯基,R3为氢原子或碳数1-8之直链或支链烷基或烯基,或为(R7)s-COOH,R4为-(CH2)t -(t=2-10)、C6-C10之伸芳基、羰基、磺基、氧原子或硫原子,R5系C1-C10之伸烷基、C6-C10之伸芳基、羰基、磺基、氧原子或硫原子,R6为碳数1-8烷基、烯基、氢原子、受羟基取代之苯基或基,R7为碳数1-10之直链或支链伸烷基;又,K为0-5的整数、s为0或1;m,n,m',n',m",n"各满足m+n=8.m'+n'=5.m"+n'=4之关系式,且为各苯基骨架中至少含有1个羟基之数;p为2以上且重量平均分子量为100-1,000范围内之数目)。2.一种经化学增幅之正型光阻材料,其系含(A)有机溶媒(B)以酸不稳定基所保护之硷不溶性或硷难溶性之树脂,该酸不稳定基被解离时可成硷可溶性之树脂(C)溶解阻碍剂(D)酸产生剂(E)申请专利范围第1项内容所述之溶解控制剂。3.如申请专利范围第1或2项所述之正型光阻材料,其中该树脂系使用如下记式(10)所示,其中q/(q+r)(保护取代率)为0.05-0.8范围之分子中,羟基中部份氢原子受酸不稳定基所保护,且重量平均分子量为1,000-50,000之聚羟基苯乙烯所得者…(10)(式中,R为酸不稳定基,q、r各自为q/(q+r)为0.05-0.8范围内之数目)。
地址 日本
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