| 主权项 |
1.一种用于传送晶片(13)离开/进入匣盒(10)之装置, 包括一封闭反应室(41),该封闭反应室具有一第一 开口(37),该第一开口用于接收该匣盒,以及一第二 开口(38),该第二开口用于移动该些晶片至一处理 装置,该些开口成一直线,其中至少有一档板(44),用 于关闭该些开口之一,该档板能够接收该匣盒之档 板(42),其特征在于:具有一附加的档板(46),独立于 该档板(44),并且在于一气体之供给(49)与抽离(50)装 置安装于该封闭反应室中。2.如申请专利范围第1 项所述之装置,其中该供给装置(49)之设计为可使 气流移动进入该匣盒中。3.如申请专利范围第1项 或第2项所述之装置,其中该些档板基本上包括平 板,其分别在该第一开口与该第二开口之平面移开 ,系为了暴露该些开口。4.如申请专利范围第1项或 第2项所述之装置,更包括可与其交互作用之匣盒, 其中该匣盒包含恒久地附加于外壳之晶片架。5. 如申请专利范围第3项所述之装置,更包括可与其 交互作用之匣盒,其中该匣盒包含恒久地附加于外 壳之晶片架。6.如申请专利范围第4项所述之装置, 其中在该匣盒中用于容纳该些晶片之平面基本上 垂直于该第一开口之平面。7.如申请专利范围第5 项所述之装置,其中在该匣盒中用于容纳该些晶片 之平面基本上垂直于该第一开口之平面。8.一种 用于在封闭反应室中传送晶片离开/进入匣盒之方 法,其中放置该匣盒以一侧打开面对封闭反应室, 使得该匣盒之档板一致于用于该封闭反应室之一 开口的档板,在该匣盒之档板与该封闭反应室之档 板一起移进该封闭反应室,该封闭反应室提供有一 附加可关闭的开口,用于移出/供给该些晶片离开/ 进入该封闭反应室,其特征在于:移出该匣盒之档 板期间,关闭该附加开口,并且经由该封闭反应室 供给清除气体,接着打开该附加开口。9.如申请专 利范围第8项所述之方法,其中藉由部分打开匣盒 档板供给该清除气体。10.如申请专利范围第8或9 项所述之方法,其中在暴露该附加开口之后,该些 晶片连续地移出/插进该匣盒。图式简单说明: 第一图是绘示且部分显示依照本发明之装置的透 视图; 第二图是绘示依照第一图之装置的设计图;以及 第三图a至第三图e是绘示依照本发明在各种位置 更详细的剖面图。 |
