SULFONILOXIMAS PARA FOTORRESISTORES DE LINEA I DE ALTA SENSIBILIDAD YALTOS ESPESORES DE RESISTENCIA

摘要

Sulfoniloximas para fotorresistores de línea I de alta sensibilidad y altos espesores de resistencia. La invención describe una composición que puede activarse por la luz, que comprende a) un compuesto que puede reticularse con la acción de un ácido; b) un compuesto que cambia sus solubilidad bajo la acción de un ácido; y c) como fotoiniciador un compuesto que genera un ácido sulfónico bajo la exposición de luz de longitud de onda de 240 a 390 nm, y con un coeficiente de extinción {ep} inferior a la línea i(365 nm). Estas composiciones son especialmente apropiadas para la preparación de fotorresistores negativos y positivos, placas de impresión, materiales de registro de imagen o filtros de color.