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发明名称 PRECURSOR COMPLEX COMPOUND FOR VAPOR DEPOSITION OF HIGH DIELECTRIC THIN FILM AND PROCESS FOR VAPOR DEPOSITION USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR100289947(B1) 申请公布日期 2001.05.15
申请号 KR19980040371 申请日期 1998.09.28
申请人 UP CHEMICAL CO LTD 发明人 SHIN HYEON KUK
分类号 H01L21/312;C07F3/00;C07F3/04;C07F5/00;C07F7/00;C07F7/24;C07F7/28;C07F9/00;C07F15/00;C23C16/18;C23C16/40;H01L21/8242;H01L27/108 主分类号 H01L21/312
代理机构 代理人
主权项
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