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发明名称
LOW PRESSURE INDUCTIVELY COUPLED HIGH DENSITY PLASMA REACTOR
摘要
申请公布号
KR20010041386(A)
申请公布日期
2001.05.15
申请号
KR1020007009511
申请日期
2000.08.26
申请人
发明人
分类号
H01J37/32
主分类号
H01J37/32
代理机构
代理人
主权项
地址
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