ion implantation apparatus

摘要

더미 웨이퍼가 필요 없으며 제조비가 감소되고 효율이 증가될 수 있는 이온 주입 장치가 제공된다. 이온 주입 장치에는 웨이퍼 디스크상의 각각의 웨이퍼 지지부에 연결된 지지부 아암이 제공되며, 이들 지지부 아암들은 웨이퍼 디스크의 반경 방향으로 웨이퍼 지지부들을 이동시킬 수 있다. 이온 주입 장치에는, 웨이퍼들이 이온빔에 의해서 조사되도록 스캐닝 위치를 제어하는 제어 유닛이 제공된다.