| 发明名称 |
Phase-shifting photomask blank, phase-shifting photomask, method for producing them and apparatus for manufacturing the blank |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US6228541(B1) |
申请公布日期 |
2001.05.08 |
| 申请号 |
US19990292936 |
申请日期 |
1999.04.16 |
| 申请人 |
ULVAC COATING CORPORATION;MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
ISAO AKIHIKO;KAWADA SUSUMU;YAMAMOTO TSUNEO;AMANO JUN;KOBAYASHI RYOICHI;YOSHIOKA NOBUYUKI |
| 分类号 |
G03F1/08;C23C14/00;C23C14/04;C23C14/06;C23C14/34;C23C14/50;G03F1/00;G03F1/32;G03F1/40;G03F1/68;G03F1/80;(IPC1-7):G03F9/00;B32B15/00 |
主分类号 |
G03F1/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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