发明名称 Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Oberflächen
摘要 Bei einem Verfahren zum Behandeln und Beschichten einer Oberfläche eines Werkstücks (8) mit einem Plasma, bei dem ein alternierendes elektrisches Feld zwischen dem Werkstück (8) und einer ersten Plasmaelektrode (4) erzeugt wird, um aus der Richtung des zugeordneten Plasmas (7) abwechselnd Ionen und Elektronen auf die Oberfläche zu lenken, ist vorgesehen, daß das Werkstück den Ionen und Elektronen in einem Zwischenraum zwischen der ersten und wenigstens einer weiteren Plasmaelektrode (5) ausgesetzt wird, und daß zwischen jeder der weiteren Plasmaelektroden (5) und dem Werkstück (8) ebenfalls ein alternierendes elektrisches Feld erzeugt wird, und die alternierenden Felder aller Plasmaelektroden (4, 5) jeweils in einem festen Phasenverhältnis zueinander stehen. Auf diese Weise bilden sich auf jeder Oberfläche des Werkstücks zyklisch sowohl negative wie positive Potentiale. Diese führen abwechselnd zum positiven Ionenbombardement der Oberfläche und zu Neutralisation durch Elektronen der dadurch entstehenden Oberflächenladung.
申请公布号 DE19951017(A1) 申请公布日期 2001.05.03
申请号 DE19991051017 申请日期 1999.10.22
申请人 ROBERT BOSCH GMBH 发明人 FORGET, JEANNE;VOIGT, JOHANNES
分类号 H05H1/24;B01J19/08;C23C14/02;C23C14/32;C23C16/02;C23C16/509;C23C16/511;C23C16/517;H01J37/32;H01L21/205;(IPC1-7):C23C16/44;C23C14/22;C23F4/00 主分类号 H05H1/24
代理机构 代理人
主权项
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