摘要 |
Bei einem Verfahren zum Behandeln und Beschichten einer Oberfläche eines Werkstücks (8) mit einem Plasma, bei dem ein alternierendes elektrisches Feld zwischen dem Werkstück (8) und einer ersten Plasmaelektrode (4) erzeugt wird, um aus der Richtung des zugeordneten Plasmas (7) abwechselnd Ionen und Elektronen auf die Oberfläche zu lenken, ist vorgesehen, daß das Werkstück den Ionen und Elektronen in einem Zwischenraum zwischen der ersten und wenigstens einer weiteren Plasmaelektrode (5) ausgesetzt wird, und daß zwischen jeder der weiteren Plasmaelektroden (5) und dem Werkstück (8) ebenfalls ein alternierendes elektrisches Feld erzeugt wird, und die alternierenden Felder aller Plasmaelektroden (4, 5) jeweils in einem festen Phasenverhältnis zueinander stehen. Auf diese Weise bilden sich auf jeder Oberfläche des Werkstücks zyklisch sowohl negative wie positive Potentiale. Diese führen abwechselnd zum positiven Ionenbombardement der Oberfläche und zu Neutralisation durch Elektronen der dadurch entstehenden Oberflächenladung.
|