| 发明名称 |
Forming oxide layers in semiconductor layers |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2355850(A) |
申请公布日期 |
2001.05.02 |
| 申请号 |
GB19990025176 |
申请日期 |
1999.10.26 |
| 申请人 |
* MITEL SEMICONDUCTOR AB |
发明人 |
NICOLAE * CHITICA;FREDRIK * SALOMONSSON;ANITA * RISBERG |
| 分类号 |
B01J3/00;B01J15/00;B01J19/00;C30B33/00;H01L21/316;H01S5/183;H01S5/22;(IPC1-7):H01L21/316 |
主分类号 |
B01J3/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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