发明名称 | 分析流体流动过程的装置和方法 | ||
摘要 | 本发明的流体流动过程分析装置和方法包含:构成一个被分成若干小的基元的三维模型,以便代表流体流动的腔体,当关注的小基元位置靠近腔壁表面时,确定流导k为一个小值,当该小基元远离该表面时,确定流导k为一个大值,根据已确定的流导计算在各个小基元处的压力、压力转变或流速。在本发明的注模产品制造方法中,将被分成若干小的基元的代表流体流动的腔体的三维模型用来在惯用的计算时间内分析例如注模过程之类的流体流动过程。 | ||
申请公布号 | CN1065175C | 申请公布日期 | 2001.05.02 |
申请号 | CN95115238.6 | 申请日期 | 1995.08.01 |
申请人 | 东丽株式会社 | 发明人 | 中野亮 |
分类号 | B29C45/76;G09B23/12 | 主分类号 | B29C45/76 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 黄力行 |
主权项 | 1.一种用于分析流体流动过程的装置,包括:三维模型构成装置,用于构成一个被分成若干小的基元的三维模型,以便至少代表流体流动的腔体的一部分;流导确定装置,用于当关注的小基元位置靠近腔壁表面时确定流体的流导k为一个小值,以及当该小基元远离该表面时,确定流体的流导k为一个大值;以及压力计算装置,用于根据所述流导k求出:(a)在所述各个小的基元处的流体压力;或(b)在所述各个小基元处的流体的压力转变;或(c)在所述各个小基元处的流体的流速。 | ||
地址 | 日本东京都 |