发明名称 Composite particles and production process thereof, aqueous dispersion composition for chemical polishing, and process for manufacture of semiconductor device
摘要
申请公布号 EP1020488(A3) 申请公布日期 2001.05.02
申请号 EP20000100909 申请日期 2000.01.18
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA;JSR CORPORATION 发明人 YANO, HIROYUKI;MINAMIHABA, GAKU;MATSUI, YUKITERU;OKUMURA, KATSUYA;MOTONARI, MASAYUKI;HATTORI, MASAYUKI;IIO, AKIRA
分类号 C08G83/00;C08K3/34;C09G1/02;C09K3/14;H01L21/306;H01L21/3105;H01L21/321;(IPC1-7):C08G83/00;H01L21/02 主分类号 C08G83/00
代理机构 代理人
主权项
地址