| 主权项 |
1.一种纯水制造装置,具备:第1逆渗透膜,将原水分离成浓缩水与纯水;加热装置,用来加热前述第1逆渗透膜分离出的浓缩水;第2逆渗透膜,将经前述加热装置加热之浓缩水分离成排水与处理水;且将第2逆渗透膜所分离出之处理水混入原水中,以此混合水当作原水使用之;贮水槽,用来贮存原水以供给至前述第1逆渗透膜;及回收水槽,用来贮存前述第1逆渗透分离出之浓缩水以供给至前述加热装置。2.如申请专利范围第1项所述之纯水制造装置,其中,前述第2逆渗透膜具耐热性。3.如申请专利范围第1项所述之纯水制造装置,其中,前述加热装置为热交换器。4.如申请专利范围第2项所述之纯水制造装置,其中,前述加热装置为热交换器。5.如申请专利范围第1项所述之纯水制造装置,其中,再设置用来加热前述原水之热交换器,将经此热交换器加热之原水供给至前述第1逆渗透膜。6.如申请专利范围第2项所述之纯水制造装置,其中,再设置用来加热前述原水之热交换器,将经此热交换器加热之原水供给至前述第1逆渗透膜。7.如申请专利范围第3项所述之纯水制造装置,其中,再设置用来加热前述原水之热交换器,将经此热交换器加热之原水供给至前述第1逆渗透膜。8.如申请专利范围第4项所述之纯水制造装置,其中,再设置用来加热前述原水之热交换器,将经此热交换器加热之原水供给至前述第1逆渗透膜。9.如申请专利范围第1项所述之纯水制造装置,其中,将用来提高二氧化矽溶解度之二氧化矽分散剂供给至前述第1逆渗透膜分离出之浓缩水中。10.如申请专利范围第2项所述之纯水制造装置,其中,将用来提高二氧化矽溶解度之二氧化矽分散剂供给至前述第1逆渗透膜分离出之浓缩水中。11.如申请专利范围第3项所述之纯水制造装置,其中,将用来提高二氧化矽溶解度之二氧化矽分散剂供给至前述第1逆渗透膜分离出之浓缩水中。12.如申请专利范围第4项所述之纯水制造装置,其中,将用来提高二氧化矽溶解度之二氧化矽分散剂供给至前述第1逆渗透膜分离出之浓缩水中。13.如申请专利范围第5项所述之纯水制造装置,其中,将用来提高二氧化矽溶解度之二氧化矽分散剂供给至前述第1逆渗透膜分离出之浓缩水中。14.如申请专利范围第6项所述之纯水制造装置,其中,将用来提高二氧化矽溶解度之二氧化矽分散剂供给至前述第1逆渗透膜分离出之浓缩水中。15.如申请专利范围第7项所述之纯水制造装置,其中,将用来提高二氧化矽溶解度之二氧化矽分散剂供给至前述第1逆渗透膜分离出之浓缩水中。16.如申请专利范围第8项所述之纯水制造装置,其中,将用来提高二氧化矽溶解度之二氧化矽分散剂供给至前述第1逆渗透膜分离出之浓缩水中。图式简单说明:第一图系显示本发明的纯水制造装置之一例的构成。第二图系显示本发明的纯水制造装置之其他例的构成。第三图系显示习知的纯水制造装置之一例的构成。 |
