发明名称 具管形流之环炉
摘要 一种用以烘烤含碳块体之炉体,其沿着炉体之纵长方向X上系包含一系列之部位,每一部位沿着炉体之横向方向Y上系包含中空壁(3),经由该中空壁(3)可使得由燃烧气体所构成之加热气流或冷却气流于其中循环,并与容纳有待烘烤之含碳块体(4 0)的凹窝(4)交替地配置,在部位中之每一中空壁体(3)系与一位在上游部位之壁体相连通以及/或一位在下游部位中之壁体相连通,以构成一导管,经由此导管该气流系可以由上游侧循环至下游侧,且在所有部位之纵长方向X上同时地燃烧,每一部位之壁体在X一Z平面上系包含两个垂直横向分隔件(38),且在横长方向Y上之元件系用以将流经该壁体之气流加以偏移,且在该横向分隔件(38)之间维持固定之间隔,其特征在于每一壁体(3)系包含一装置,其系用以在至少该三分之一壁体长度L的长度上维持速率为 D之气流均匀地分布在Y-Z平面上之壁体的整个正向截面积,且该气流分布系具有一定之均匀度,其系由表示式”2yD-0.5yD/yS”所定义,其中”2yD-0.5yD”系表示对应于该正向截面积S之分部y之流动速率D的流动范围宽度,且其中y系不超过0.25。
申请公布号 TW432194 申请公布日期 2001.05.01
申请号 TW088109060 申请日期 1999.06.01
申请人 百基尼铝业公司 发明人 克里斯汀.德瑞尔;尚–克里斯多夫.罗特杰
分类号 F27D7/00 主分类号 F27D7/00
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种具有开放型部位(2)而用以在一转动火焰中烘烤含碳块体(40)之环炉(1),其沿着炉体之纵长方向X上系包含一系列由具有开口(320)之头壁(32)所隔开之部位,每一部位沿着炉体之横向方向Y上系包含中空壁(3),经由该中空壁(3)可使得由燃烧气体所构成之加热气流(35)或冷却气流(34)于其中循环,并与容纳有待烘烤之含碳块体(40)的凹窝(4)交替地配置,在部位(2)中之每一中空壁体(3)系与一位在上游部位之壁体相连通以及/或一位在下游部位中之壁体相连通,以构成一导管(5),经由此导管该气流(34.35)系可以由上游侧循环至下游侧,且在所有部位之纵长方向X上同时地燃烧,每一部位之壁体在X-Z平面上系包含两个垂直横向分隔件(38),且在横长方向Y上之元件系用以将流经该壁体之气流加以偏移,且在该横向分隔件(38)之间维持固定之间隔,其特征在于每一壁体(3)系包含一装置,其系用以在至少该三分之一壁体长度L的长度上维持速率为D之气流均匀地分布在Y-Z平面上之壁体的整个正向截面积,且该气流分布系具有一定之均匀度,其系由表示式"2yD-0.5yD/yS"所定义,其中"2yD-0.5yD"系表示对应于该正向截面积S之分部y之流动速率D的流动范围宽度,且其中y系不超过0.25。2.根据申请专利范围第1项之环炉,其包含由一头壁(32)所隔开之部位,该头壁系具有截面积为So之开口(320),经由该开口,气流(34.35)便可以由一壁体流至下一壁体,且其中该壁体在其上游侧系包含一装置,其系用以获得一具有截面积S>So之流体,其系由具有截面积So且速率为D之起始流开始,且其均质度系等于至少0.50D-0.125D/0.25S。3.根据申请专利范围第2项之环炉,其中该装置系将位在该壁体之上游入口处且具有起始截面积So且速率为D之气流,在小于该壁体之长度L之一半的距离上,转变成具有相等于至少3So之截面积S。4.根据申请专利范围第2项之环炉,其中该用以获得具有速率D及截面积S以及均质度气流之装置,系由分隔元件或连结梁所构成,其系用以将具有截面积So之起始流藉由数个变化范围由2至4之阶部来加以分割。5.根据申请专利范围第1项之环炉,其中该导管系具有固定之截面积,该壁体(32)所具有之开口(320)系在Y-Z平面上系大约具有截面积S,以藉由一系列用以同时活化该炉火之中空壁(3)而构成大致具有固定截面积S之导管(5),其中该均质度系可以藉由一插置在位于导管(5)上游端之转动炉火上游侧之可移除的分布装置来达成,以将具有该均质度之气流重新喷射至每一导管(5)中。6.根据申请专利范围第5项之环炉,其中该均质度亦可以藉由该插置在位于由活化炉火之一系列中空壁所构成之导管(5)上游端之转动炉火上游侧之可移除分布装置来达成,以吸取该气流而不会干扰到在上游侧之气流的均质度。7.根据申请专利范围第5项之环炉,其中分布装置可以系柜体或平行六面体形状之分布板(232),其在X-Y平面上系具有一平面状之水平截面积,如此之选择系可使该柜体能够垂直地插入至位在中空壁(3)之气道(37)中,或者介于两部位之间,或者其在Y-Z平面上所具有之截面积系略小于该壁体之截面积S,且在平行于Y-Z平面之表面上系具有开口(2320),其几何形状系可加以计算,使其可以将该气流在导管(5)之上游侧以该均质度来喷入,或者系吸取位在导管(5)之下游侧的气流。8.根据申请专利范围第1至7项中任一项之环炉,其中该用以维持速率D之气流在截面积S上具有均质度之气流的装置,系包含复数个元件或固定至横向分隔件(38)之元件或连结砖(33),并且系沿着在该壁体或该导管之X-Z平面上而大致均匀地分布,且具有足够之数量来确保该位于横向分隔件(38)之间之固定间隔,以将该气流分割成变化范围由3至20之数个分流,且均匀地分布在整个截面积S上,且使得该分流可以沿着炉体之纵轴X而产生具有预定方向之流动。9.根据申请专利范围第4项之环炉,其中该元件或连结砖(33)之轮廓设计系相当具有优点地可以降低气流之压力损失,并且可提供用以维持在该壁体(38)之间之固定间隔所需之其他所需之功能,且可以达成整个气流在该整个截面积S上维持预定之均质度。10.根据申请专利范围第8项之环炉,其中该元件或连结砖(33)之轮廓设计系相当具有优点地可以降低气流之压力损失,并且可提供用以维持在该壁体(38)之间之固定间隔所需之其他所需之功能,且可以达成整个气流在该整个截面积S上维持预定之均质度。图式简单说明:第一图系沿着环炉1部份之X-Z平面所取之剖面视图第一图a系显示在纵向中空壁3中之流动速率D的压力曲线。第二图系显示一系列活化部位之上游侧的部份立体分解视图,第三图显示气流之图表,第四图及第四图a系类似于第三图及第三图a,但其系与本发明相关。由第四图可以很容易地看出,由0.50D-0.125D/0.25S所定义之均质度,系可以在横座标X1及X2之间的长度L'上来达成。第五图系显示本发明之第二实施例,其系在X-Z平面上的部份截面积视图,第六图系第一图依照第五图之修改后的结构,第七图a至第七图d系在X-Z平面中之部位,其中显示连结砖或元件系将该气流加以偏移,或者绕着该连结砖33a、33b、33c、33d而流动之流体,某些33c及33d系具有长椭圆形之形状,该长椭圆形系具有一主轴330,以促使气流流动,并且降低其压力损失(压头损失)。第八图系显示采用长椭圆形元件33c、33d之例子,其中该长椭圆形之方向系可使得该连结砖具有气流方向,以进一步降低压力损失,尤其系在该部位系由壁体32所隔开之情况下,其中在该壁体上系形成有气孔或开孔320,其可以使气流由一部位通至下一个部位。
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