| 摘要 |
一种有被覆之光纤(维),包括石英系玻璃芯材和外皮构成的玻纤,以及在该玻纤外周涂布主要被覆树脂层和次要被覆树脂层,经光硬化而得之主要被覆和次要被覆,其特征为,硬化前之该次要被覆树脂层对波长领域310~340nm的光之吸光度Avs最大值Avs(max)在0.5以下,且硬化前之该主要被覆树脂层对该波长领域的光之吸光度Avp,较该吸光度Avs为大者。 |
| 主权项 |
1.一种有被覆之光纤,包括石英系玻璃芯材和外皮 构成的玻纤,以及在该玻纤外周涂布之由光硬化性 树脂组成之主要被覆树脂层和由光硬化性树脂组 成之次要被覆树脂层,经光硬化而成之主要被覆和 次要被覆, 其特征为,硬化前的该次要被覆树脂层对波长领域 310-340nm的光之吸光度As最大値As(max)在0.5以下,且硬 化前的该主要被覆树脂层对该波长领域的光之吸 光度Ap,较该吸光度As为大者,且硬化后的该次要被 覆树脂层对该波长领域的光之吸光度As'最大値As( max)'在0.52以下,且硬化后的该主要被覆树脂层对该 波长领域的光之吸光度Ap',较该吸光度As'为大者。 2.如申请专利范围第1项之有被覆之光纤,其中该吸 光度Ap较该吸光度As大0.3以上者。3.如申请专利范 围第1项之有被覆之光纤,其中硬化后的该主要被 覆和该次要被覆的厚度分别10-50m,硬化后的该主 要被覆树脂和该次要被覆树脂的杨氏系数,分别0. 05-0.15kg/mm2和50-150kg/mm2者。4.一种制造如申请专利 范围第1项之有被覆的光纤之制法,其特征包括: 第一步骤,准备主要被覆树脂和次要被覆树脂,使 硬化前的由光硬化性树脂组成之次要被覆树脂层 对波长领域310-340nm的光之吸光度As最大値As(max)在0 .5以下,且硬化前的由光硬化性树脂组成之主要被 覆树脂层对该波长领域的光之吸光度Ap,比前述吸 光度As为大; 第二步骤,在石英系玻璃芯材和外皮构成的玻纤外 周,同时涂布该主要被覆树脂层和次要被覆树脂层 ; 第三步骤,令该主要被覆树脂层和该次要被覆树脂 层,经光硬化而得被覆光纤之光纤者,且硬化后的 该次要被覆树脂层对该波长领域的光之吸光度As' 最大値As(max)'在0.52以下,且硬化后的该主要被覆树 脂层对该波长领域的光之吸光度Ap',较该吸光度As' 为大者。5.如申请专利范围第4项之制法,其中该吸 光度Ap较该吸光度As大0.3以上者。6.如申请专利范 围第4项之制法,其中主要被覆和该次要被覆的厚 度分别10-50m,硬化后的该主要被覆树脂和该次要 被覆树脂的杨氏系数,分别0.05-0.15kg/mm2和50-150kg/mm2 者。7.如申请专利范围第4项之制法,其中在该第三 步骤中,使用金属卤化物灯照射紫外线,将该主要 被覆树脂层和该次要被覆树脂层加以光硬化者。 图式简单说明: 第一图为本发明被覆光纤一具体例中各被覆树脂 层对波长之吸光度的测定値曲线图; 第二图为本发明被覆光纤另一具体例中各被覆树 脂层对波长之吸光度的测定値曲线图; 第三图为本发明被覆光纤一具体例之断面图; 第四图为本发明被覆光纤制造装置一具体例之模 式图; 第五图为本发明被覆光纤制造所适用一次双重被 覆装置之一具体例概略断面图; 第五图B为利用第五图A所示装置同时被覆二树脂 层的未硬化被覆光纤之Y-Y断面图; 第六图为金属卤化物灯的发光光谐特性一例之图 。 |
