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Un método para crear una película de carbono amorfo (DLC)sobre un sustrato, CARACTERIZADA porque consiste en los siguientes pasos:exponer un sustrato a un ambiente de gas de hidrocarburo, y generar plasma en ese ambiente con una densidad de electrones de más de 5x1010 por cm3 y un espesor de revestimiento de menos de 2mm en condiciones de flujo elevado de iones y un bombardeo de iones de baja energía controlado.Deposición química en fase vapor mejorada por plasma de una película de carbono amorfo (DLC) sobre substrato, CARACTERIZADA porque consiste en los siguientes pasos:exponer el sustrato a un ambiente de hidrocarburos, y generar plasma en ese ambiente mediante un acoplamiento inductivo con una corriente de iones de más de 2 mA/cm2 y una tensión polarizada entre -100 y -1000 voltios. |
