| 发明名称 |
Mask pattern correction method and a recording medium which records a mask pattern correction program |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US6221539(B1) |
申请公布日期 |
2001.04.24 |
| 申请号 |
US19990358824 |
申请日期 |
1999.07.22 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA |
发明人 |
KOTANI TOSHIYA;TANAKA SATOSHI;INOUE SOICHI |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F1/08;G03F1/14;G03F1/36;G03F1/68;G03F1/70;G03F7/20;G06F17/50;(IPC1-7):G03F9/00;G06F3/00 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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