| 主权项 |
1.一种双轴向旋转机构,其系包含:一双轴向座,具有一垂直方向及一水平方向;一垂直轴总成固定于该双轴向座之垂直方向,该垂直轴总成具有一旋转角度限制件;一支撑架枢接于垂直轴总成,该支撑架与垂直轴总成设有一第一弹性件,使支撑架与垂直轴总成产生一摩擦力,该支撑架设有一止动件向下延伸,当该支撑架相对垂直轴总成旋转时,该支撑架之止动件因受旋转角度限制件限制,仅能旋转一圈以内;及一水平轴总成设于该双轴向座之水平方向,该水平轴总成与该双轴向座间设有一第二弹性件,使该水平轴总成与该双轴向座间产生一摩擦力。2.依申请专利范围第1项之双轴向旋转机构,其中该双轴向座系呈一三通管状,具有一垂直管壁及一水平管壁,垂直管壁可供垂直轴总成插入,水平管壁可供水平轴总成插入。3.依申请专利范围第2项之双轴向旋转机构,其中该垂直轴总成系由一固定插销固定于双轴向座之垂直管壁中。4.依申请专利范围第1项之双轴向旋转机构,其中该第一弹性件系为一皿型弹簧(disk spring)。5.依申请专利范围第1项之双轴向旋转机构,其中该第二弹性件系为一圆弧状弹簧片。6.依申请专利范围第1项之双轴向旋转机构,其中该支撑架相对于该垂直轴总成旋转之角度为300至330度。7.一种双轴向旋转机构,其系包含:一双轴向座,具有一垂直管壁及一水平管壁;一垂直轴总成具有一第一轴向下延伸、一第一凸缘位于第一轴顶端、一第二轴向上延伸及一第二凸缘位于第二轴之底端,第一轴穿设于该双轴向座之垂直管壁内,第一凸缘抵靠垂直管壁上端,第二凸缘具有一旋转角度限制件凸出于该第二凸缘;一支撑架套于第二轴,而由一固定件紧压一弹性垫圈于支撑架上,且将弹性垫圈及支撑架枢接固定于第二轴上,该支撑架设有一止动件向下延伸,当该支撑架相对垂直轴总成旋转时,该支撑架之止动件因受旋转角度限制件限制,仅能旋转一圈以内;及一水平轴总成,具有一轴本体及一弹性片,轴本体设有两定位槽沟,其间距略大于水平管壁之长度,由两定位扣环分别固定于两定位槽沟,使轴本体可旋转定位于水平管壁内。8.依申请专利范围第7项之双轴向旋转机构,其另包含一固定插销,穿过垂直管壁使垂直轴总成固定于双轴向座之垂直管壁中。9.依申请专利范围第7项之双轴向旋转机构,其中该定位扣环为C型扣环。10.依申请专利范围第7项之双轴向旋转机构,其中该定位扣环为E型扣环。11.依申请专利范围第7项之双轴向旋转机构,其中该弹性垫圈系为一皿型弹簧(disk spring)。12.依申请专利范围第11项之双轴向旋转机构,其中该皿型弹簧(disk spring)系由弹簧钢制成。13.依申请专利范围第12项之双轴向旋转机构,其中该皿型弹簧(diskspring)系由铍铜制成。14.依申请专利范围第7项之双轴向旋转机构,其中该支撑架相对于该垂直轴总成旋转之角度为300至330度。图式简单说明:第一图:习用平板天线双轴向旋转机构之分解示图;第二图:本创作双轴向旋转机构之组合示图;第三图:本创作双轴向旋转机构之分解示图;第四图:本创作双轴向旋转机构之上视图;第五图:本创作双轴向旋转机构沿第四图5-5剖线之剖视图;及第六图:本创作双轴向旋转机构沿第四图6-6剖线之剖视图。 |
