发明名称 羰基化合物之制备方法
摘要 本发明系关于制备下式之羰基化合物之方法
申请公布号 TW430644 申请公布日期 2001.04.21
申请号 TW086119501 申请日期 1997.12.22
申请人 巴地斯颜料化工厂 发明人 汤玛斯菲瑟;德克迪穆斯;亨兹鲁特;海穆司斯梅尼格;彼德瑞斯奇;威翰鲁培尔;哈洛瓦奇
分类号 C07C45/00 主分类号 C07C45/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种制备下式羰基化合物之方法其中R1为氢原子或具1至3个碳原子之烷基,R2为氢原子或下式基团其中R3为氢原子或与R4一起为氟原子,R4为基团OR6或与R3一起为氧原子,R5为氢原子或含1至8个碳原子之烷基或环己基或环戊基,且R6为含1至4个碳原子之烷基-环己基或环戊基或下式基团-CH2-CHO或-CH2-CH2-O-CH2-CHO,其系藉使用含氧气体,于含(铜及/或银)之催化剂及于反应条件下为挥发性之磷化合物存在下,使甲醇或下式之醇行气相氧化作用其中R1及R5如上定义,且R7为氢原子或基团OR8,且R8为氢原子、含1至4个碳原子之烷基、环己基或环戊基或式-CH2-CH2-OH或-CH2-CH2-O-CH2-CH2-OH之基团,其中基于使用醇之重量,磷(以P计)之重量为少于20ppm,其中使用之磷量系至少分为二部份,其中a)第一部份在气相起始物质混合物到达催化床之前加入该混合物,且b)至少另一部份系加入催化床内。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中至少另一部份b)加至催化床之催化床总深度之顶部0.1至50%之层内。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中至少另一部份b)加至催化床总深度之顶部1至35%之层内。4.根据申请专利范围第1项之方法,其中使用之磷量系以二部份加入。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中基于使用醇之重量,使用之磷量(以P计)为0.05至20ppm。6.根据申请专利范围第1项之方法,其中使用之磷量的第一部份对其它部份之重量比例为0.005:1至200:1。7.根据申请专利范围第1项之方法,其中乙二醛系自乙二醇制备。
地址 德国