发明名称 用于把不导电的基质做无电镀覆金属的方法
摘要 一种把不导电的基质用无电流镀覆金覆的方法,其中,将金属镀覆到基质上之前,施覆一载体层,以供镀覆金覆之用。把一种含有机金属化合物的正片漆施覆到基质上,然后将该正片漆用紫外光照射,并使金属在照射过的正片漆上析出。
申请公布号 TW430693 申请公布日期 2001.04.21
申请号 TW084113445 申请日期 1995.12.16
申请人 罗伯特博斯奇股份有限公司 发明人 洛塔.威伯;库特.史密特;拉夫.豪克;多洛堤.克里
分类号 C23C18/30 主分类号 C23C18/30
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种用于把不导电的基质做无电镀覆金属的方法,其中提供一不导电的载体层,将该基质涂以一种正片漆,该正片漆含有至少一种可用紫外光硬化的聚合物,至少一种有机金属化合物及一种光活性物质,然后将该正片漆施覆的基质用紫外光照射,该紫外光的波长、曝光时间及照射强度可以选择,以将该聚合物的氧化合物形成在该基质表面,且其中在一适合作无电流镀金属的槽液作无电流镀金属,将一层金层层镀在该照射过之施覆的基质上。2.如申请专利范围第1项之方法,其中:该正片漆利用一种习知的紫外光灯照射。3.如申请专利范围第1项或第2项之方法,其中:藉着改变紫外线波长及/或照射时间及/或照射强度而调整该镀金属所用之中间层的析出作用。4.如申请专利范围第1项或第2项之方法,其中:覆以有机金属化合物且受照射之正片漆在镀覆金属前作还原作用。5.如申请专利范围第1或第2项之方法,其中:该照射作业用短波紫外光达成。6.如申请专利范围第1或第2项之方法,其中:在一铜液槽中镀覆金属,以制造导电路线。7.如申请专利范围第1或第2项之方法,其中:在一镍或镍合金液槽中镀覆金属。以制造电阻。图式简单说明:第一图系本发明方法过程的一流程图,第二图系在紫外光照射之时正片漆的固定的反应过程,第三图系在该正片漆中的有机金属化合物的应用的各种例子。
地址 德国