| 主权项 |
1.一种用于离子源之灯丝(18),包含:(i)第一与第二脚部(20a、20b);及(ii)一热放射中央部位(40),其具有分别连接至该第一与第二脚部之端部,该热放射中央部位系实质上沿其全长而为线圈状且形成为概括闭合回路之形状。2.如申请专利范围第1项之灯丝(18),其中该等脚部(20a、20b)系由钽(Ta)所构成。3.如申请专利范围第1项之灯丝(18),其中该热放射部位(40)系由钨(W)所构成。4.如申请专利范围第1项之灯丝(18),其中该热放射部位(40)系由实质上沿其全长一起作卷绕之复数个灯丝股(42.44.46)所构成。5.如申请专利范围第1项之灯丝(18),其中该热放射部位(40)之形状系环形。6.如申请专利范围第1项之灯丝(18),其中该热放射部位(40)系形成为以相反方向之线圈状的二个半部(40a、40b)。7.如申请专利范围第6项之灯丝(18),其中当电流系流通于该热放射部位时,该热放射部位(40)之线圈系能够建立闭合回路磁场线(B)于其内。8.如申请专利范围第7项之灯丝(18),其中该闭合回路磁场线(B)将由热放射部位(40)表面所放射的电子(E)限制于该等线圈之边界内。9.一种用于离子植入器之离子源(10),包含:(i)一电弧室(12),系由壁(14)所形成;(ii)一入口(16),用以引入一可离子化气体至该电弧室;(iii)一出口缝隙(22),一离子化电浆可由其取出;及(iv)一灯丝(18),具有第一与第二脚部(20a、20b)以及一热放射中央部位(40),该热放射中央部位具有分别连接至该第一与第二脚部之端部,该热放射中央部位系实质上沿其全长而为线圈状且其形成为概括闭合回路之形状。10.如申请专利范围第9项之离子源(10),其中该等脚部(20a、20b)系由钽(Ta)所构成,且该热放射部位(40)系由钨(W)所构成。11.如申请专利范围第9项之离子源(10),其中该热放射部位(40)系由实质上沿其全长一起作卷绕之复数个灯丝股(42.44.46)所构成。12.如申请专利范围第9项之离子源(10),其中该热放射部位(40)之形状为环形。13.如申请专利范围第9项之离子源(10),其中该热放射部位(40)系形成为以相反方向之线圈状的二个半部(40a、40b)。14.如申请专利范围第13项之离子源(10),其中当电流系流通于该热放射部位时,该热放射部位(40)之线圈系能够建立闭合回路磁场线(B)于其内,且其中该闭合回路磁场线(B)将由热放射部位(40)表面所放射的电子(E)限制于该等线圈之边界内。15.一种用于离子植入器之电浆簇射器(30),包含:(i)一电弧室(32),系由壁(33)所形成;(ii)一入口(34),用以引入一可离子化气体至该电弧室;(iii)一出口缝隙(38),一离子化电浆可由其取出;及(iv)一灯丝(18),具有第一与第二脚部(20a、20b)以及一热放射中央部位(40),该热放射中央部位具有分别连接至该第一与第二脚部之端部,该热放射中央部位系实质上沿其全长而为线圈状且其形成为概括闭合回路之形状。16.如申请专利范围第15项之电浆簇射器(30),其中该等脚部(20a、20b)系由钽(Ta)所构成,且该热放射部位(40)系由钨(W)所构成。17.如申请专利范围第15项之电浆簇射器(30),其中该热放射部位(40)系由实质上沿其全长一起作卷绕之复数个灯丝股(42.44.46)所构成。18.如申请专利范围第15项之电浆簇射器(30),其中该热放射部位(40)之形状为环形。19.如申请专利范围第15项之电浆簇射器(30),其中该热放射部位(40)系形成为以相反方向之线圈状的二个半部(40a、40b)。20.如申请专利范围第19项之电浆簇射器(30),其中当电流系流通于该热放射部位时,该热放射部位(40)之线圈系能够建立闭合回路磁场线(B)于其内,且其中该闭合回路磁场线(B)将由热放射部位(40)表面所放射的电子(E)限制于该等线圈之边界内。图式简单说明:第一图系用于离子植入器之一种习用离子源的横截面图;第二图系用于离子植入器之一种习用电浆簇射器的横截面图;第三图系用于离子植入器之一种离子源的横截面图,其使用本发明之灯丝;第四图系用于离子植入器之一种电浆簇射器的横截面图,其使用本发明之灯丝;第五图系于第三图之离子源与第四图之电浆簇射器所显示的灯丝之透视部分横截面图;第六图系取自于第五图之线6-6的灯丝之透视图;及第七图系取自于第五图之线7-7的灯丝之部分横截面图。 |
