发明名称 阻绝阀、利用该阻绝阀隔开相邻处理室之方法及具有该阻绝阀之基材处理系统
摘要 用以将一第一区域与一第二区域选择性地密封的阻绝阀。一闸阀可包括一壳体其界定一介于该第一及第二区域的通道。该阀包括一位在该壳体内之闸门其可移动于一收藏的位置与一配送的位置之间。当该闸门在其收藏的位置时,该第一与第二区域之间即可建立一沟通。当该闸门在其配置的位置时,该闸门阻挡该通道且可被控制用以阻绝该第一与该第二区域。该等阀可与用于处理大玻璃基材的系统一起使用。该等阀对于阻绝长矩形开口,如在基材处理室中之开口,特别有用。一直线的系统中之处理室与负载锁定室之阻绝处理可被改善。
申请公布号 TW430727 申请公布日期 2001.04.21
申请号 TW088108239 申请日期 1999.05.20
申请人 应用小松科技股份有限公司 发明人 盖瑞C.伊廷格;约翰M.怀特
分类号 F16K25/00;F16K15/18 主分类号 F16K25/00
代理机构 代理人 蔡坤财 台北巿松江路一四八号十二楼
主权项 1.一种用来将一第一区域与一第二区域选择性地 阻隔之阻绝阀,该阻绝阀至少包含: 一壳体,其界定一介于该第一及第二区域之间的通 道,该通道至少延伸于一第一埠与一第二埠之间; 及 一闸门,其设置于该壳体内且可被移动于该第一区 域与第二区域之间可建立沟通之一收藏的位置与 该闸门挡住该通道的一配置的位置之间,该闸门包 括: (a)第一及第二密封件,每一密封件具有一各自面朝 外的表面;及 (b)一可膨胀元件,其被设置于该第一密封件及该第 二密封件之间,其中该膨胀元件可从一第一状态膨 胀至一第二状态,且可从该第二状态被收缩至该第 一状态,其中在该第一状态时,该闸门可移动于该 收藏的位置与该配置的位置之间,及在该第二状态 且该値门是在配置的位置时,该第一及第二密封件 被该可膨胀元件的膨胀所偏动而彼此远离,使得第 一密封件之面朝外的表面与第一埠成密封地啮合, 用以将该第一区域与该第二区域密封阻隔开来,及 该第二密封件之面朝外的表面与壳体啮合。2.如 申请专利范围第1项所述之阻隔阀,其中当该闸门 在配置的位置且该可膨胀元件在第二状态时,该第 二密封件与该第二埠成密封地啮合,用以防止通过 该第二埠之沟通。3.如申请专利范围第1项所述之 阻隔阀,其中该第一及第二密封件大致彼此对齐且 彼此平行。4.如申请专利范围第1项所述之阻隔阀, 其中该第一密封件及第二密封件中的每一者都包 括一大致平的板子。5.如申请专利范围第1项所述 之阻隔阀,其中该可膨胀的元件包括一可胀大件。 6.如申请专利范围第5项所述之阻隔阀,其中该可胀 大件包括一弹性囊袋。7.如申请专利范围第1项所 述之阻隔阀,其中该可胀大件包括一伸缩软管。8. 如申请专利范围第1项所述之阻隔阀,其中该第一 密封件之面朝外的表面包括一第一垫圈,及其中该 第二密封件之面朝外的表面包括一第二垫图。9. 如申请专利范围第1项所述之阻隔阀,其中当该闸 门在配置的位置且该可膨胀元件在第二状态时,该 第二埠与该壳体的一内部之间的流体沟通即被禁 止。10.如申请专利范围第1项所述之阻隔阀 ,其中该壳体进一步包括一湾形部,其中当该可膨 胀件是在第一状态且该闸门是在收藏的位置时,该 闸门会位在湾形部之内。11.如申请专利范围第1项 所述之阻隔阀 ,其更包括至少一弹簧,其将该第一及第二密封件 朝向彼此偏动。12.如申请专利范围第11项所述之 阻隔阀 ,其更包括多对张力弹簧,其中在每一对弹簧中的 一第一弹簧是将该第一密封件连结至一框架及每 一对弹簧中的一第二弹簧是将该第二密封件连结 至该框架,该第一弹簧与该第二弹簧轴向地对齐。 13.如申请专利范围第1项所述之阻隔阀 ,其进一步包括一作动器用以将该闸门移动于该收 藏的与该配置的位置之间。14.如申请专利范围第 13项所述之阻隔阀 ,其进一步包括一框架其将该作动器连结至该闸门 ,该框架包括: 一横向交叉件,其连结至该作动器并具有第一及第 二端;及 第一与第二柱元件,分别位在该加叉件的第一及第 二端上,该第一及第二元柱件每一者都连结至该第 一及第二密封件。15.如申请专利范围第14项所述 之阻绝阀 ,其进一步包含第一及第二可挠曲件,每一可挠曲 件都具有一上缘及下缘,挠曲件的下缘被固定于该 交叉件上及该第一可挠曲件的上缘则固定于该第 一密封件,及该第二可挠曲件的上缘固定于该第二 密封件上。16.如申请专利范围第15项所述之阻绝 阀 ,其进一步包括一第一导管用来将该可膨胀元件胀 大,该第一导管通过第一及第二可挠曲件之间。17. 如申请专利范围第16项所述之阻绝阀 ,其进一步包括一第二导管用来将该可膨胀元件漏 气,其中该第二导管通过第一及第二可挠曲件之间 。18.如申请专利范围第1项所述之阻绝阀 ,其中当该闸门在配置的位置及该可膨胀元件在第 二状态时,该第二密封件与第二埠成密封式地啮合 用以防止通过该第二埠之流体沟通,及在该壳体内 的压力大于在相邻在处理室内的压力。19.如申请 专利范围第18项所述之阻绝阀 ,其中在该壳体内的压力为周围环境的压力。20.如 申请专利范围第1项所述之阻绝阀 ,其中当该闸门在配置的位置及该可膨胀元件在第 二状态时,该第二密封件与第二埠成密封式地啮合 用以防止通过该第二埠之流体沟通,及其中该壳体 界定一空穴其在一由该可膨胀元件所包围的区域 之外,该空穴是在一第一压力下,该第一压力低于 在该由该可膨胀元件所包围的区域内之第二压力 。21.一种阻绝阀,其至少包含: 一壳体,其界定一介于一第一室与一第二室之间的 通道; 一闸门组件,其设置于该壳体之内; 用来将该闸门组件置于一和该第一室沟通的第一 埠与一和该第二室沟通的第二埠之间的机构; 用来造成该闸门组件与该第一埠啮合的机构,用以 最初地将该第一室与第二室密封阻隔开来;及 用来改变壳体内的压力之机构,用以进一步将该第 一室与第二室密封阻隔开来。22.一种使用一阀来 将一第一室与一第二室密封阻隔开的方法,该阀具 有一壳体及一被设计成可将该第一室及第二室选 择性地密封阻隔的闸门组件,该方法至少包含: 将该闸门组件置于一和该第一室沟通的第一埠与 一和该第二室沟通的第二埠之间; 造成该闸门组件与该第一埠啮合用以最初地将该 第一室与第二室密封阻隔开来;及 改变壳体内的压力之机构,用以进一步将该第一室 与第二室密封阻隔开来。23.如申请专利范围第22 项所述之方法,其中改变压力包括了将压力升高至 在该第一室内的压力之上。24.如申请专利范围第 22项所述之方法,其中改变压力包括了将压力升高 至在该等室外面之环境压力之上。25.如申请专利 范围第22项所述之方法,其中改变压力包括了将压 力降一至在该第一室内的压力之上。26.一种阻绝 阀,其至少包含: 一壳体,其具有一基材可被传送通过其中之路径, 其中一沿着该路径的一周缘的表面形成一可与一 闸门啮合的座; 一闸门,其被设置于该壳体内,其中该闸门具有一 第一位置,在该位置时该路径是打开的,及一第二 位置,在该位置时该闸门与该座啮合用以将该路径 封闭起来; 一举升机构,其连结至该闸门用以控制该闸门在其 第一位置与一和该路径向对的中间升起的位置之 间的运动;及 一转动机构,其连结至该闸门用以控制该闸门在其 中间的升起位置与其第二位置之间的转动。27.如 申请专利范围第26项所述之阻绝阀 ,其中该转动机构包括至少一推进圆筒其具有第一 及第二位置,其中该至少一推进圆筒之在其第一与 第二位置之间的运动造成该闸门转动于其中间升 起的位置与其第二位置之间。28.如申请专利范围 第26项所述之阻绝阀 ,其中当该闸门是在其第二位置时,一水平分力被 提供用以让该闸忙将该路径封闭起来。29.如申请 专利范围第26项所述之阻绝阀 ,其中该举升机构包括: 一举升圆柱; 一活塞杆,其连结至该举升圆柱; 一举升板,其连结至该活塞杆;及 至少一轴杆,其一端连结至该举升板及另一端连结 至该闸门的一第二端。30.如申请专利范围第29项 所述之阻绝阀 ,其中该闸门具有一垂直轴稍微偏离该至少一轴杆 的垂直轴。31.如申请专利范围第30项所述之阻绝 阀 ,其中该闸门的垂直轴偏离该至少一轴杆的垂直轴 至少0.5度,使得该闸门的顶端在该闸门位在其中间 的升起位置时倾斜偏离该路径。32.如申请专利范 围第30项所述之阻绝阀 ,其中当该闸门是在其第一位置时,该闸门的顶端 至少是与该路径的底部大致一样低。33.如申请专 利范围第26项所述之阻绝阀 ,其中该举升机构及该转动机构被设置于一位在该 第一壳体底下的框架中。34.如申请专利范围第26 项所述之阻绝阀 ,其中该壳体包括至少一位在与该路径大致垂直的 表面上之开口,其中该至少一开口被作为一基材传 送机构的区动机构的真空进给孔的形状。35.如申 请专利范围第26项所述之阻绝阀 ,其中该壳体包括至少一位在与该路径大致垂直的 表面上之开口,其中该至少一开口具有能够容许该 将从阀壳体中被取出之闸门通过该至少一开口的 大小。36.如申请专利范围第26项所述之阻绝阀 ,其中该壳体包括一上表面,该上表面具有至少一 开口用以在该闸门被设置于该壳体内时,帮助该闸 门之目视检查。37.一种基材处理系统,其至少包含 : 第一及第二处理室,每一处理室都具有各自的内部 区域; 一第一阀壳体,其被设置于该第一与第二处理室之 间且与该第一处理室相邻,及形成一可到达该第一 处理室之第一基材路径; 一第一闸门,其被设置于该第一阀壳体之内,其中 该第一闸门可移动于该第一路径是打开的一第一 位置与该第一路径被封闭的一第二位置之间; 一第一作动器机构,其被设置于一第一框架内并连 结至该第一闸门用以控制该第一闸门在该第一与 第二位置之间的运动;及 一第二阀壳体,其被设置于该第二处理室与该第一 阀壳体之间,及形成一可到达该第二处理室之第二 基材路径; 一第二闸门,其被设置于该第二阀壳体之内,其中 该第二闸门可移动该第二路径是打开的一第一位 置与该第二路径被封闭的一第二位置之间; 一第二作动器机构,其被设置于一第二框架内并连 结至该第二闸门用以控制该第二闸门在其第一与 第二位置之间的运动。 其中每一作器机构都包括: (a)一举升机构用以造成一相关连的闸门移动于其 第一位置与一和该路径相对的中间升起的位置之 间;及 (b)一转动机构,其具有各自的第一及第二位置,其 中该转动机构之既于其第一及第二位置之间的运 动造成相关联的闸门转动于其中间升起的位置与 其第二位置之间。38.如申请专利范围第37项所述 之系统,其中每一阀壳体及作动器机构框架是被非 对称地形成,使得该第一阀壳体与该第二作洞器机 构框架部分地重叠。39.如申请专利范围第38项所 述之系统,其中该第一阀壳体包括至少一位在与该 路径大致垂直的表面上之开口,其中该至少一开口 被作成一基材传送机构的区动机构的真空进给孔 的形状。40.如申请专利范围第37项所述之系统,其 中该第一阀壳体与该第一处理室一体地形成为一 单一的单元,及该第二阀壳体与该第二处理室一体 地形成为一单一的单元。41.如申请专利范围第37 项所述之系统,其中每一举升机构都包括一举升圆 柱及其中每一转动机构都包括至少一推进圆筒。 图式简单说明: 第一图为一根据本发明的一实施例之阀的横向剖 面图,其显示在一打开的情形。 第二图为沿着第一图的线2-2所取之该阀的部分纵 向剖面图。 第三图为沿着第二图的线3-3所取之该阀的上剖面 图。 第四图第一图中之阀的横向剖面图,其显示在一关 闭的情形。 第五图为沿着第四图的线5-5所取之该阀的部分纵 向剖面图。 第六图及第七图为根据本发明的阀之额外实施例 的部分横向剖面图。 第八图为根据本发明的另一实施例之一室的部分 立体图。 第九图为具有作动器壳体之第八图中的室的一侧 视图。 第十图为第八图之室的侧视图,其显示在一降下的 位置之举升机构。 第十一图显示一杆块其形成第十图中之举升机构 的一部分。 第十二图为第八图中之室的侧视图,其显示在升起 位置的举升机构。 第十三图为沿着第十二图中之举升机构上的线13- 13所取的侧视图。 第十四图为沿着第十二图中之举升机构上的线14- 14所取的侧视图。 第十五图A-第十五图C分别显示在一降下的位置,一 升高的位置及一关闭的位置之密封板。 第十六图、第十七图为第八图中之室的立体侧视 图,其中一密封板分别是位在降下的位置及升高的 (或关闭的)位置。 第十八图为第十六图中之室的立体侧视图,其包括 一基材传送盘。 第十九图显示两个依据本发明被彼此相邻地设置 之室。
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