| 主权项 |
1.一种制备下式羰基化合物之方法 其中R1为氢原子或具1至3个碳原子之烷基,R2为氢原 子或下式基团 其中R3为氢原子或与R4一起为氧原子,R4为基团OR6或 与R3一起为氧原子,R5为氢原子、具1至8个碳原子之 烷基或环己基或环戊基,且R6为具1至4个碳原子之 烷基-环己基或环戊基或式-CH2-CHO或-CH2-CH2-O-CH2-CHO 之基团,其系藉使用含氧气体,于含铜及/或银之催 化剂及于反应条件下为挥发性之磷化合物量存在 下,使甲醇或下式之醇行气相氧化作用 其中R1及R5如上定义,且R7为氢原子或基团OR8,且R8为 氢原子、具1至4个碳原子之烷基、环己基或环戊 基或式-CH2-CH2-OH或-CH2-CH2-O-CH2-CH2-OH之基团,其中基 于使用醇之重量,磷(以P计)之量为最多20ppm,其中该 磷系直接导入于催化床内(being introduced within the catalyst bed)。2.根据申请专利范围第1项之方法,其 中磷系导入催化床于催化床之总高度上方0.1-50%区 域。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中磷系导 入催化床之总高度上方1-35%区域。4.根据申请专利 范围第1项之方法,其中基于使用醇之重量,磷量(以 P计)为 0.05至20ppm。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中 磷系以至少二部份导入。6.根据申请专利范围第5 项之方法,其中第一部份磷对其余部份之重量比为 0.005至200。7.根据申请专利范围第1项之方法,其中 乙二醛系自乙二醇制备。 |
