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<P>- L'invention concerne un dispositif de production d'un plasma par décharges de type capacitif, pour la mise en oeuvre du procédé, du type comprenant une électrode passive (3) placée à distance d'une électrode active (4) alimentée par une tension de maintien de décharge.- Selon l'invention, le dispositif comprend une électrode active constituée par une série d'électrodes actives élémentaires (4 i ) réparties de façon géométriquement uniforme en regard de l'électrode passive, chaque électrode active élémentaire (4 i ) délimitant chacune, en regard de l'électrode passive (3), d'une part, une surface active (5) alimentée par une tension de maintien de décharge et, d'autre part, une surface passive (8).</P>
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