Vorrichtung und Verwendung der Vorrichtung zur Überwachung von absichtlichen oder unvermeidbaren Schichtabscheidungen

摘要

Vorgeschlagen wird eine Einrichtung zur Überwachung von Schichtabscheidungen in einer Prozeßkammer, bestehend aus, einer Lichtquelle (1, 8), einem Sensorelement (4) und mindestens einem Lichtdetektor (5), wobei das Sensorelement geeignet beschaffen ist, um die Intensität des vom Detektor gemessenen Lichtstrahls (10) durch die Dicke der auf dem Sensorelement aufwachsenden Schicht zu beeinflussen und ein Verfahren zur Messung von Schichtdicken mit der Vorrichtung. Das Sensorelement hat bevorzugt eine durchgehende Öffnung, durch die hindurch die Intensität des Lichts, in Abhängigkeit der durch die Dicke der aufwachsenden Schicht zuwachsenden Öffnung, beobachtet wird.