| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Elektronenstoßionenquelle zur Erzeugung vielfach- oder höchstgeladener Ionen, bestehend aus einer Elektronenkanone mit Kathode und Anode zur Erzeugung und Beschleunigung von Elektronen, einer Einrichtung zur axialsymmetrischen Fokussierung des Elektronenstrahles, Mitteln zur Einbringung von ionisierbaren Substanzen in eine zu öffnende und zu schließende Ionenfalle im Bereich des axialsymmetrisch fokussierten Elektronenstrahles, einer Einrichtung zur Vernichtung der Elektronen nach dem Durchgang durch die Ionenfalle, sowie einer Einrichtung zur Erzeugung eines Vakuums um den axialsymmetrisch fokussierten Elektronenstrahl und die darin befindliche Ionenfalle, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zur axialsymmetrischen Fokussierung des Elektronenstrahles aus wenigstens zwei gegenläufig radial magnetisierten Ringstrukturen (2) besteht und jede der Ringstrukturen (2) den Elektronenstrahl umfaßt, je zwei gegenläufig radial magnetisierte Ringe (2) zu einem einheitlichen Magnetsystem durch magnetische Leiter (7, 9) verbunden sind, wobei das sich schließende Magnetfeld den Aufenthaltsbereich der Ionen in der Ionenfalle durchdringt, die Kathode eine sehr hohe Emissivität von ≥ 25 A/cm2 bei kleinem Kathodendurchmesser aufweist, und ein Vakuum von 10?-7 bis 10-11¿ Torr im Aufenthaltsbereich der Ionen während des Betriebs der Elektronenstoßionenquelle einstellbar ist.</p> |
