发明名称 METHOD FOR PRODUCING HIGHLY PURE, GRANULAR SILICONE AT LOW PRESSURE
摘要 <p>Verfahren zur Herstellung von hochreinem, granularem Silizium durch Zersetzung eines siliziumhaltigen Gases, insbesondere eines Silans in einem Druckbereich von 100 bis 900 mbar, wobei bis zu 50 Vol-%, bezogen auf das insgesamt zugeführte Gas, eines siliziumfreien Gases zugegeben werden können.</p>
申请公布号 WO2001027029(A1) 申请公布日期 2001.04.19
申请号 EP2000009479 申请日期 2000.09.28
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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