发明名称 磁记录介质用双轴取向叠层聚酯薄膜
摘要 一种磁记录介质用双轴取向叠层聚酯薄膜,其特征在于,它是由聚酯树脂构成的基层(A)及在该基层(A)的一个表面上存在的含有胶粘剂、添加微粒子及表面活性剂的涂膜层(B)构成的叠层薄膜,该基层(A)实质上不含有添加微粒子或含有平均粒径0.005—0.3μm的添加粒子0.001—0.1wt%,该涂膜层(B)的表面中心面粗糙度(SRa)在5nm以下,该涂膜层(B)的表面长径为0.05μm以上的凸起密度在8万个/mm<SUP>2</SUP>以下,且长径为10μm以上的特大凸起密度在20个/cm<SUP>2</SUP>以下。本发明的薄膜用于运行耐久性、电磁转换特征优异且噪声极少的磁记录介质的基础薄膜。
申请公布号 CN1292135A 申请公布日期 2001.04.18
申请号 CN99803536.X 申请日期 1999.11.01
申请人 帝人株式会社 发明人 内田俊一;东条光峰;大泽利文;龟冈晃;浦僚克;小菅雅彦
分类号 G11B5/733;B32B27/36 主分类号 G11B5/733
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 邰红;杨丽琴
主权项 1.一种磁记录介质用双轴取向叠层聚酯薄膜,它是由聚酯树脂所形成的基层(A)及在其一个表面上所形成的涂膜层(B)所构成的叠层薄膜,其特征在于,(1)该基层(A)实质上不含有添加微粒子或含有平均粒径为0.005~0.3μm的添加粒子0.001~0.1wt%,(2)该涂膜层(B)含有胶粘剂树脂、添加微粒子及表面活性剂,其添加微粒子平均粒径为10~50nm,含有0.5~30wt%,且涂膜层(B)具有3~40nm的厚度,(3)该涂膜层(B)的表面满足下述表面特性(a)~(d),(a)通过使用扫描型电子显微镜放大5000倍的表面照片计测,长径为0.05μm以上大小的凸起数在80000个/mm2以下,(b)通过使用扫描型电子显微镜放大35000倍的表面照片所计测的凸起数为1~40个/μm2,(c)长径为10μm以上的特大凸起数在20个/cm2以下,并且(d)表面中心面平均粗糙度(SRa)在5nm以下。
地址 日本大阪府大阪市