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发明名称 A METHOD FOR MINIMIZING THE CRITICAL DIMENSION GROWTH OF A FEATURE ON A SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 KR20010032247(A) 申请公布日期 2001.04.16
申请号 KR1020007005450 申请日期 2000.05.18
申请人 发明人
分类号 H01L21/3213 主分类号 H01L21/3213
代理机构 代理人
主权项
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