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发明名称 RAPID THERMAL PROCESSING (RTP) SYSTEM WITH GAS DRIVEN ROTATING SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR20010032421(A) 申请公布日期 2001.04.16
申请号 KR1020007005661 申请日期 2000.05.24
申请人 发明人
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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