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发明名称 Verfahren zur Herstellung von Silicaglas für Photolithographie
摘要
申请公布号 DE69611004(T2) 申请公布日期 2001.04.12
申请号 DE19966011004T 申请日期 1996.03.28
申请人 NIKON CORP., TOKIO/TOKYO 发明人 HIRAIWA, HIROYUKI
分类号 C03B8/04;C03B19/14;C03B20/00;C03B32/00;G02B1/02;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):C03B19/14 主分类号 C03B8/04
代理机构 代理人
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