首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 METHOD FOR SINGLE CHAMBER PROCESSING OF PECVD-TI AND CVD-TIN FILMS IN IC MANUFACTURING
摘要
申请公布号 EP1090417(A1) 申请公布日期 2001.04.11
申请号 EP20000926143 申请日期 2000.04.19
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 LEUSINK, GERRIT, J.;WARD, MICHAEL, G.;AMEEN, MICHAEL, S.;HILLMAN, JOSEPH, T.
分类号 C23C16/30;C23C16/02;C23C16/14;C23C16/34;C23C16/56;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/285;H01L21/320 主分类号 C23C16/30
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com