发明名称 반도체 웨이퍼 현상장치
摘要 <p>본 고안은 반도체 웨이퍼 현상장치에 관한 것으로, 웨이퍼를 회전가능하게 지지하는 웨이퍼척과; 상기 웨이퍼를 회전구동시키는 구동모터와; 상기 웨이퍼척의 둘레영역에 배치되는 캐치컵; 상기 웨이퍼척의 상측에 소정 이격배치되어 상기 웨이퍼척에 고정된 웨이퍼의 표면에 소정의 물질을 분사시키는 분사노즐과; 상기 분사노즐과 상호 연통되게 결합되는 질소가스공급라인과; 상기 분사노즐과; 상기 분사노즐과 상호 연통되게 결합되는 질소가스공급라인과; 상기 분사노즐과 상호 연통되게 결합되는 현상액공급라인과; 상기 분사노즐과 상호 연통되게 결합되는 린스액공급라인과; 상기 질소가스공급라인과 상기 현상액공급라인 및 상기 린스액공급라인과 상기 분사노즐사이에 개재되어 상기 분사노즐과 상기 라인중 어느 하나를 선택적으로 상호 연통시키는 3방밸브를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 구성을 단순화하여 설치면적을 감소시킬수 있을 뿐만 아니라, 분사노즐에 부착되는 오염물질을 신속하고 용이하게 제거할 수 있는 반도체 웨이퍼 현상장치가 제공된다.</p>
申请公布号 KR200211252(Y1) 申请公布日期 2001.04.02
申请号 KR19970035855U 申请日期 1997.12.06
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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